公开(公告)号：CN101515459A

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200910007634.9

申请日：2009-02-16

Applicant: 富士电机电子技术株式会社

Inventor： 堀口道子

IPC: G11B5/74 ,  G11B5/855

CPC classification number: G11B5/82 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743 ,  G11B5/8408 ,  G11B5/855

Abstract: 本发明提供具备具有划分信息记录区域的凹凸图案的磁性层、耐腐蚀性优异的第一保护层和磁头滑动性优异的第二保护层的图案化磁记录介质及其制造方法。其包括具有划分信息记录区域的道状和/或点状的凹凸图案的磁性层、覆盖该磁性层的第一保护层和形成在该第一保护层的凸部图案顶部上的第二保护层，该第二保护层由利用FCA法或FCVA法形成的四面体碳(ta－C)膜构成。其制造方法包括在底层或磁性层上利用纳米压印法形成光固化性抗蚀剂的蚀刻图案、蚀刻底层或磁性层形成凹凸图案的工序；在磁性层的凹凸图案上利用等离子体CVD法形成第一保护层的工序；和在该第一保护层的凹凸图案的至少顶部利用FCA法或FCVA法形成由四面体碳(ta－C)膜构成的第二保护层的工序。