公开(公告)号：CN1791964A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：CN02818262.6

申请日：2002-07-15

Applicant: 宾奥普迪克斯股份有限公司

Inventor： A·比赫法尔 ,  A·T·施莱莫 ,  C·B·斯塔加莱斯库

IPC: H01L21/00

CPC classification number: G02B6/12002 ,  B81B2201/047 ,  B81C99/008 ,  B81C2201/0159 ,  G02B6/13 ,  G02B6/4204 ,  G02B6/4249 ,  G03F7/0037 ,  Y10S438/948 ,  Y10S438/949 ,  Y10S438/95

Abstract: 用一系列加工步骤在基材(10)的表面上制造任意形状的三维结构，这样就以相继的各层制造成一个层叠的整体结构。将光阻材料的第一层(14)旋压在基材(10)的表面(18)上，并将它以对应于最终结构之形状的所需图案在结构的对应剖面层面处曝光。这一层在曝光后暂不冲洗，而是在第一层上压附上第二层30并且也将它以所需图案曝光。后续的各层(40，52，64)依次旋压在其前一层的顶面上并曝光，相继各层依次曝光完成后各限定所需三维结构的对应层面，将所有各层一起冲洗，以留下三维结构(22)。