铁离子印迹聚合物的制备方法

    公开(公告)号:CN104130440A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201410213909.5

    申请日:2014-05-20

    Abstract: 本发明提供一种铁离子印迹聚合物制备方法。将环氧树脂和二乙烯三胺溶于甲醇,搅拌加入甲基丙烯酸铁、丙烯酰胺和N,N-亚甲基双丙烯酰胺、偶氮二异丁氰、甲醇,再搅拌至体系制得具有空间网络结构的高聚物,进一步反应得交联后的共聚物,粉碎共聚物并筛分得铁离子印迹聚合物初产物,对所制得的初产物用甲醇/盐酸溶液洗涤,再用蒸馏水洗至初产物呈中性,过滤、干燥得到终产物铁离子印迹聚合物。本发明以铁离子为模板,利用离子印迹制备技术合成了铁离子印迹聚合物,终产物对铁离子具有较高吸附容量和较好吸附选择性,可将所合成的铁离子印迹聚合物装填成固相萃取小柱应用于水样中铁离子的固相萃取与富集。

    桑色素分子印迹硅胶的制备方法

    公开(公告)号:CN104130358A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201410251229.2

    申请日:2014-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种桑色素分子印迹硅胶的制备方法:以桑色素分子为模板,丙烯酰胺或甲基丙烯酸为功能单体,利用硅胶表面接枝印迹技术合成桑色素分子制备印迹硅胶。其制备分为三个步骤:(1)N-丙基马来酰胺酸修饰硅胶的制备;(2)桑色素分子印迹硅胶的初产物合成;(3)桑色素分子印迹硅胶的纯化处理。用该方法制备的桑色素印迹硅胶具有较高的吸附容量和良好的选择性吸附性能,从实验验证总结得桑色素印迹硅胶对实际样品的回收率良好,因此在分子的识别、富集、分离和检测等方面显示出了良好的应用前景。

    一种萃取剂可循环的正反萃取装置

    公开(公告)号:CN206700838U

    公开(公告)日:2017-12-05

    申请号:CN201621354775.X

    申请日:2016-12-12

    Inventor: 毛杰 江伟 王乐

    Abstract: 一种萃取剂可循环的正反萃取装置是一种正反萃取装置,正反萃取一般有两步萃取过程,一般情况下需要两套萃取装置,工艺复杂。本实用新型采用一体化的设计,用池代替萃取塔。使生产可以不间断,操作更加简单,占地小,显著的降低了装置的高度。

    一种可清洗萃取剂的正反萃取装置

    公开(公告)号:CN206152390U

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201621181346.7

    申请日:2016-11-03

    Abstract: 本实用新型是一种可清洗萃取剂的正反萃取装置。传统的正反萃取装置会由于环境问题引入污染物,污染萃取剂,一般情况下萃取剂需要定期更换,成本高,不易操作。本实用新型所解决的技术问题是针对上述技术的不足,提供的一种可清洗萃取剂的正反萃取装置。可以使萃取装置中的萃取剂可以进行清洗,从而使萃取剂达到循环。

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