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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108628242A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810325032.7
申请日：2018-04-12
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: G05B19/05
Abstract: 本发明公开了一种基于PLC控制平台的机床设备加解密与授权方法，包括以下步骤：1.在机床的PLC控制程序中加入加密算法程序模块，在所述加密算法程序模块激活后自动产生一个所述机床的唯一的ID号；2.厂家使用一基于PC运行的解密软件，启动所述解密软件后通过输入所述机床的ID号并设定授权到期时间，自动生成解密注册码；3.在所述机床锁定不能正常使用的情况下，将所述解密软件生成的注册码输入所述ID号对应机床的PLC，由所述加密算法程序模块对输入的所述注册码进行解析判断是否正确，若正确即可解锁并授权所述机床正常使用到设定的时间，若不正确机床继续锁定。本发明具有简单、安全、方便、成本低的优点。
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公开(公告)号：CN116045861A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310101708.5
申请日：2023-02-10
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: G01B11/30
Abstract: 本发明涉及砂轮检测设备技术领域，公开了一种基于3D线扫激光相机的砂轮平面度在线检测装置及方法。该装置包括，底座部件、主轴座、伸出轴、3D线扫激光相机、调整支座和前支座。其中，底座部件通过调整支座和前支座安装在磨床箱体上，底座部件包括底座、安装在底座上的直线导轨副和驱动装置。3D线扫激光相机通过伸出轴与主轴座连接，且3D线扫激光相机还与控制和显示机构电连接。本发明应用3D线扫激光相机对砂轮的平面进行扫描，获得当前砂轮的几何形状与平面度，为机床依据检测数据自动调整和修整参数，或者为调试人员加工产品提供数据支撑。
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公开(公告)号：CN109434572A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201811595577.6
申请日：2018-12-25
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种磁性粉末与抛光液分离的排出装置及方法，其装置包括一设有排液口的容器，所述容器内设有一与排液口配合的排液阀，容器的底部外设有励磁线圈。本发明利用在底部外设置励磁线圈的容器装磁流抛光机的含有磁性粉末的抛光液，通过控制励磁线圈产生的磁场，将磁性粉末吸附在容器上，再将抛光液排出，实现抛光液与磁性粉末的分离，磁性粉末回收后可与新的抛光液重复使用，延长磁性粉末的使用寿命。本发明十分简单，磁性粉末几本上可全部回收，分离效果好，可减低生产成本，提高经济效益。
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公开(公告)号：CN211414525U
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201922422791.8
申请日：2019-12-30
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种减小精密设备热变形的装置，包括箱体、设在箱体上的导轨副、安装在导轨副上的拖板、设在拖板与箱体之间用于驱动拖板运动的直线电机，直线电机的动子和定子分别固定在驱动拖板和箱体上，所述直线电机的定子与拖板之间设有隔热板，驱动电机的动子上设有由冷却进水管和冷却回水管组成的循环水冷却回路。本实用新型原理简单成本低，可有效解决高精度设备局部热源的热传递所引起的热变形问题，提高设备运动精度。
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公开(公告)号：CN209304211U
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201822190201.9
申请日：2018-12-25
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种磁性粉末与抛光液分离的排出装置，包括一设有排液口的容器，所述容器内设有一与排液口配合的排液阀，容器的底部外设有励磁线圈。本实用新型利用在底部外设置励磁线圈的容器装磁流抛光机的含有磁性粉末的抛光液，通过控制励磁线圈产生的磁场，将磁性粉末吸附在容器上，再将抛光液排出，实现抛光液与磁性粉末的分离，磁性粉末回收后可与新的抛光液重复使用，延长磁性粉末的使用寿命。本实用新型十分简单，磁性粉末几本上可全部回收，分离效果好，可减低生产成本，提高经济效益。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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