微细复杂内流道的化学物理耦合抛光介质、方法和装置

    公开(公告)号:CN119871201A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202510210546.8

    申请日:2025-02-25

    Abstract: 本发明涉及零件精密加工技术领域,公开了微细复杂内流道的化学物理耦合抛光介质、方法和装置,通过在水基两相流抛光介质中增加化学抛光液,利用化学抛光组分对金属表面进行溶解和软化以及两相流中磨粒物理抛光的同步协同,创新化学物理耦合抛光能够降低复合抛光液所需的驱动压力和流速。通过建立复杂微细内流道的化学物理耦合抛光方法中静态化学去除速率和化学物理耦合去除速率之间的量化关系与调控手段,确保复合抛光液能够达到满足内流道设计粗糙度的最佳抛光效果;改善现有技术中单独采用高速水基两相流抛光介质技术光整增材制造微细复杂内流道时因驱动压力和流速过高易在流道转弯处产生非均匀抛光、甚至出现尺寸超差和损伤等问题。

    增材制造微细复杂内流道的光整方法及化学拋光装置

    公开(公告)号:CN119871218A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202510210548.7

    申请日:2025-02-25

    Abstract: 本发明提供一种增材制造微细复杂内流道的光整方法及化学抛光液装置,增材制造微细复杂内流道的光整方法包括以下步骤:步骤一、配置化学抛光液;步骤二、对化学抛光液进行预热;步骤三、开始进行抛光操作,待化学抛光液的流量提升值至第一设定提升值时,停止化学抛光;步骤四、进行清洗烘干操作;步骤五、选定高速磨粒流抛光介质的黏度和磨粒粒径;步骤六、开始进行高速磨粒流抛光操作,当高速磨粒流抛光介质出料质量流量提升达到第二设定提升值时,停止高速磨粒流抛光;步骤七、进行清洗烘干。本发明能够实现微细内流道的表面粗糙度抛光后达到Ra

    喷嘴、喷挡阀、以及光整装置

    公开(公告)号:CN114750078A

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN202210659757.6

    申请日:2022-06-13

    Abstract: 本发明涉及一种喷嘴、喷挡阀以及光整装置。其中,用于喷挡阀的喷嘴包括从上游至下游依次分布的第一流线段,曲率半径10mm~50mm,长度24mm~40mm,从上游至下游为渐缩结构,最大口径5.94mm~8.1mm;第二斜线段,长度6mm~10mm,倾斜角为30°~35°;第三直线段,长度3mm~5mm,口径2.2~3mm。优选地,所述第一流线段的最大口径与所述第三直线段的口径之比为2.7:1,所述第一流线段与所述第二斜线段、所述第二斜线段与所述第三直线段的连接处的倒角半径为0.1mm‑0.5mm,喷嘴内壁的表面粗糙度Ra为0.05μm~0.4μm。喷嘴通过采用第一流线段、第二斜线段、第三直线段的结构,通过三者的协同作用,实现光整介质从喷嘴射出的流体具有稳定、约束不发散的射流状态。

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