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公开(公告)号:CN102127180A
公开(公告)日:2011-07-20
申请号:CN201110020222.6
申请日:2007-02-05
Applicant: 大金工业株式会社 , 旭化成电子材料株式会社
CPC classification number: H01M8/1025 , C08F8/12 , C08F8/22 , C08F214/26 , C08F214/262 , C08F2800/10 , C08F2810/50 , C08J5/2237 , C08J2327/18 , H01B1/122 , H01M8/1039 , H01M8/1067 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082 , Y02P70/56 , C08F2216/1475 , C08F8/06 , C08F8/44
Abstract: 本发明涉及含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法和含有-SO3H基的含氟聚合物,提供一种能够在温和条件下对不稳定末端基团充分进行稳定化的新颖的制造方法。本发明的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法的特征在于,其包括按照叙述顺序对具有包含-SO2X基(X表示F或Cl)的单体单元的待处理含氟聚合物进行至少下述工序A、工序B和工序C的操作。其中,A:使卤化剂发挥作用的工序;B:使分解处理剂发挥作用的工序;C:使氟化剂发挥作用的工序。
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公开(公告)号:CN102127180B
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201110020222.6
申请日:2007-02-05
Applicant: 大金工业株式会社 , 旭化成电子材料株式会社
CPC classification number: H01M8/1025 , C08F8/12 , C08F8/22 , C08F214/26 , C08F214/262 , C08F2800/10 , C08F2810/50 , C08J5/2237 , C08J2327/18 , H01B1/122 , H01M8/1039 , H01M8/1067 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082 , Y02P70/56 , C08F2216/1475 , C08F8/06 , C08F8/44
Abstract: 本发明涉及含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法和含有-SO3H基的含氟聚合物,提供一种能够在温和条件下对不稳定末端基团充分进行稳定化的新颖的制造方法。本发明的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法的特征在于,其包括按照叙述顺序对具有包含-SO2X基(X表示F或Cl)的单体单元的待处理含氟聚合物进行至少下述工序A、工序B和工序C的操作。其中,A:使卤化剂发挥作用的工序;B:使分解处理剂发挥作用的工序;C:使氟化剂发挥作用的工序。
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公开(公告)号:CN101379095B
公开(公告)日:2011-03-02
申请号:CN200780004237.5
申请日:2007-02-05
Applicant: 大金工业株式会社 , 旭化成电子材料株式会社
CPC classification number: H01M8/1025 , C08F8/12 , C08F8/22 , C08F214/26 , C08F214/262 , C08F2800/10 , C08F2810/50 , C08J5/2237 , C08J2327/18 , H01B1/122 , H01M8/1039 , H01M8/1067 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082 , Y02P70/56 , C08F2216/1475 , C08F8/06 , C08F8/44
Abstract: 本发明涉及含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法和含有-SO3H基的含氟聚合物,提供一种能够在温和条件下对不稳定末端基团充分进行稳定化的新颖的制造方法。本发明的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法的特征在于,其包括按照叙述顺序对具有包含-SO2X基(X表示F或Cl)的单体单元的待处理含氟聚合物进行至少下述工序A、工序B和工序C的操作。其中,A:使卤化剂发挥作用的工序;B:使分解处理剂发挥作用的工序;C:使氟化剂发挥作用的工序。
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公开(公告)号:CN100539271C
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN200580030343.1
申请日:2005-09-08
Applicant: 旭化成电子材料株式会社
Abstract: 本发明提供固体高分子电解质膜及其制造方法,本发明的目的是提供在全氟化碳磺酸树脂中均匀混合有聚唑类化合物的固体高分子电解质膜,最终本发明提供具有高耐久性的固体高分子电解质型燃料电池用高分子电解质膜和含有该电解质膜的膜电极组件以及固体高分子电解质型燃料电池。本发明的固体高分子电解质膜是通过下述制造方法制得的,所述制造方法包括含有高分子电解质的溶液的制造步骤和将该含有高分子电解质的溶液成膜的成膜步骤;在所述含有高分子电解质的溶液的制造步骤中,将成分A、成分B和碱金属氢氧化物溶解在质子性溶剂中,制造含有高分子电解质的溶液,所述成分A是离子交换容量为0.5meq/g~3.0meq/g的全氟化碳磺酸树脂,所述成分B是聚唑类化合物,在所制造的含有高分子电解质的溶液中,所述成分A与所述成分B的质量比(A/B)为2.3~199,所述成分A和所述成分B的总质量为0.5重量%~30重量%。
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公开(公告)号:CN103190027B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201180052041.X
申请日:2011-10-28
Applicant: 旭化成电子材料株式会社
IPC: H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/058
CPC classification number: H01M10/056 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0567 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0028
Abstract: 本发明的非水系电解液是含有乙腈和锂盐的非水系电解液,前述锂盐的阴离子在-2.00~4.35eV的范围内具有LUMO(最低空轨道)能量、且在-5.35~-2.90eV的范围内具有HOMO(最高占有轨道)能量。
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公开(公告)号:CN103190027A
公开(公告)日:2013-07-03
申请号:CN201180052041.X
申请日:2011-10-28
Applicant: 旭化成电子材料株式会社
IPC: H01M10/0568 , H01M10/052 , H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/058
CPC classification number: H01M10/056 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0567 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0028
Abstract: 本发明的非水系电解液是含有乙腈和锂盐的非水系电解液,前述锂盐的阴离子在-2.00~4.35eV的范围内具有LUMO(最低空轨道)能量、且在-5.35~-2.90eV的范围内具有HOMO(最高占有轨道)能量。
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公开(公告)号:CN101379095A
公开(公告)日:2009-03-04
申请号:CN200780004237.5
申请日:2007-02-05
CPC classification number: H01M8/1025 , C08F8/12 , C08F8/22 , C08F214/26 , C08F214/262 , C08F2800/10 , C08F2810/50 , C08J5/2237 , C08J2327/18 , H01B1/122 , H01M8/1039 , H01M8/1067 , H01M2008/1095 , H01M2300/0082 , Y02P70/56 , C08F2216/1475 , C08F8/06 , C08F8/44
Abstract: 本发明涉及含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法和含有-SO3H基的含氟聚合物,提供一种能够在温和条件下对不稳定末端基团充分进行稳定化的新颖的制造方法。本发明的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法的特征在于,其包括按照叙述顺序对具有包含-SO2X基(X表示F或Cl)的单体单元的待处理含氟聚合物进行至少下述工序A、工序B和工序C的操作。其中,A:使卤化剂发挥作用的工序;B:使分解处理剂发挥作用的工序;C:使氟化剂发挥作用的工序。
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