公开(公告)号：CN102216850A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200980145885.1

申请日：2009-11-19

Applicant: 旭化成电子材料株式会社 ,  HOYA株式会社

Inventor： 柳田好德 ,  金子靖 ,  阿部泰之 ,  小川博司 ,  村井诚 ,  新地博之 ,  土屋雅誉 ,  本田邦之 ,  田中友和 ,  桥本宪尚

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/62 ,  G03F7/70791

Abstract: 本发明提供一种能够防止在光刻工序中在硬铬掩模上产生生长性杂质的表膜及表膜用膜、以及包含该表膜的光掩模。本发明的表膜用膜，其主要膜材料为光学用有机高分子，在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10-3mg/cm2以下。

公开(公告)号：CN102216850B

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN200980145885.1

申请日：2009-11-19

Applicant: 旭化成电子材料株式会社 ,  HOYA株式会社

Inventor： 柳田好德 ,  金子靖 ,  阿部泰之 ,  小川博司 ,  村井诚 ,  新地博之 ,  土屋雅誉 ,  本田邦之 ,  田中友和 ,  桥本宪尚

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/62 ,  G03F7/70791

Abstract: 本发明提供一种能够防止在光刻工序中在硬铬掩模上产生生长性杂质的表膜及表膜用膜、以及包含该表膜的光掩模。本发明的表膜用膜，其主要膜材料为光学用有机高分子，在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10-3mg/cm2以下。

公开(公告)号：CN100539271C

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200580030343.1

申请日：2005-09-08

Applicant: 旭化成电子材料株式会社

Inventor： 柳田好德 ,  北孝平 ,  坂本直纪 ,  古贺健裕

IPC: H01M8/02 ,  H01B13/00 ,  H01M8/10

Abstract: 本发明提供固体高分子电解质膜及其制造方法，本发明的目的是提供在全氟化碳磺酸树脂中均匀混合有聚唑类化合物的固体高分子电解质膜，最终本发明提供具有高耐久性的固体高分子电解质型燃料电池用高分子电解质膜和含有该电解质膜的膜电极组件以及固体高分子电解质型燃料电池。本发明的固体高分子电解质膜是通过下述制造方法制得的，所述制造方法包括含有高分子电解质的溶液的制造步骤和将该含有高分子电解质的溶液成膜的成膜步骤；在所述含有高分子电解质的溶液的制造步骤中，将成分A、成分B和碱金属氢氧化物溶解在质子性溶剂中，制造含有高分子电解质的溶液，所述成分A是离子交换容量为0.5meq/g～3.0meq/g的全氟化碳磺酸树脂，所述成分B是聚唑类化合物，在所制造的含有高分子电解质的溶液中，所述成分A与所述成分B的质量比(A/B)为2.3～199，所述成分A和所述成分B的总质量为0.5重量%～30重量%。