叠层体
    2.
    发明公开
    叠层体 审中-实审

    公开(公告)号:CN117401910A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202210801338.1

    申请日:2022-07-08

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。其解决手段为一种叠层体,其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体,其中,上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层,上述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层。 ;N(R71‑SiR723)mR733‑m(Q)。

    具有转印图案的被转印物的制造方法

    公开(公告)号:CN109311191A

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201780034912.2

    申请日:2017-06-14

    Abstract: 本发明提供一种制造方法,其中即使反复进行转印,被转印物也不容易从基板剥离或附着于模具。一种被转印物的制造方法,其特征在于,其包括下述工序:工序(1),将含有氟聚醚的组合物涂布至形成有脱模层的在表面具有凹凸图案的模具的上述脱模层;工序(2),将上述模具压抵至被转印物,转印上述凹凸图案;以及工序(3),将上述模具从上述被转印物脱模,得到具有转印图案的上述被转印物。

    具有异氰脲骨架的化合物和包含其的组合物

    公开(公告)号:CN113956464B

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202111291757.7

    申请日:2017-09-22

    Abstract: 本发明提供具有异氰脲骨架的化合物和包含其的组合物,目的在于提供一种能够适当地用于防污剂的化合物。一种化合物,其特征在于,其由式(1)所表示(式中,R1表示包含聚醚链的一价有机基团,其中不包括包含氨基甲酸酯键的基团,X1和X2独立地表示一价基团,上述聚醚链为式:‑(OC6F12)m11‑(OC5F10)m12‑(OC4F8)m13‑(OC3X106)m14‑(OC2F4)m15‑(OCF2)m16‑(式中,m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数,m11~m16合计为10以上的整数,X10独立地为H、F或Cl,各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链)。#imgabs0#

    表面处理剂
    9.
    发明公开
    表面处理剂 审中-实审

    公开(公告)号:CN114402047A

    公开(公告)日:2022-04-26

    申请号:CN202080063306.5

    申请日:2020-08-12

    Abstract: 一种表面处理剂,其含有式(1a)或(1b)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物、式(2)所示的含氨基的硅烷化合物和式(3)所示的含环氧基的硅烷化合物。式中各符号的含义与说明书中的记载相同。RF1α‑XA‑RSiβ(1a)RSiγ‑XA‑RF2‑XA‑RSiγ(1b)SiRNs1R81s2R82s3(2)SiREt1R91t2R92t3(3)。

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