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发明公开
叠层体审中-实审

公开(公告)号：CN117401910A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202210801338.1

申请日：2022-07-08

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 马轶 , 沈浩 , 石井大贵 , 能势雅聪 , 阪本英司

IPC: C03C17/34 , C09D183/16 , C09D183/08 , C09D171/02 , C09D5/00

Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。其解决手段为一种叠层体，其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体，其中，上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层，上述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层。 ;N(R71‑SiR723)mR733‑m(Q)。

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