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公开(公告)号：CN113728014B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202080031465.7
申请日：2020-04-27
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F6/04 , C08F14/18 , C08F114/26 , C08F259/08 , C08F214/26 , C08F2/20 , C08F2/44
Abstract: 提供一种含氟聚合物水性分散液的制造方法，其特征在于，包括下述工序A：对于包含在聚合物(I)的存在下聚合得到的含氟聚合物(其中不包括上述聚合物(I))的处理前水性分散液，实施超滤、微滤或透析膜处理、或者它们的组合，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所示的单体的聚合单元(I)。CX1X3＝CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m (I)(式中，X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3；X2为H、F、烷基或含氟烷基；A0为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)。
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公开(公告)号：CN116940604A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202280019580.1
申请日：2022-03-10
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F6/20
Abstract: 本发明提供一种含氟聚合物水性分散液的制造方法，其中，通过对含有聚合物(I)、含氟聚合物(其中不包括聚合物(I))、非离子型表面活性剂、非含氟阴离子型表面活性剂和水性介质的组合物进行浓缩，得到含有上述含氟聚合物的水性分散液，上述聚合物(I)包含基于通式(I)所示的单体(I)的聚合单元(I)。CX1X3＝CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中，X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3；X2为H、F、烷基或含氟烷基；A0为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)
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公开(公告)号：CN113039213A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980075183.4
申请日：2019-11-19
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F2/44 , C08F214/18 , C08F259/08
Abstract: 提供一种改性聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，该制造方法包括在聚合物(I)的存在下在水性介质中将四氟乙烯和改性单体聚合而得到改性聚四氟乙烯的聚合工序，该聚合物(I)包含基于下述通式(I)所示的单体的聚合单元(I)。CX1X3＝CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中，X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3；X2为H、F、烷基或含氟烷基；A0为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)
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公开(公告)号：CN110446723A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201880020278.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供含氟聚合物的新制造方法。本发明涉及含氟聚合物的制造方法，其包括通过在表面活性剂的存在下在水性介质中进行氟单体的聚合而得到含氟聚合物的工序，该含氟聚合物的制造方法的特征在于，上述表面活性剂为选自由式：R1a-CO-R2a-CO-R3a-Aa所表示的表面活性剂以及R1b-CO-(CR2b2)n-(OR3b)p-(CR4b2)q-L-Ab所表示的表面活性剂组成的组中的至少一种。
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公开(公告)号：CN114651019B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202080078031.2
申请日：2020-11-19
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F2/44 , C08F14/18 , C08F259/08
Abstract: 提供一种含氟聚合物的制造方法，其包括：在实质上不存在含氟表面活性剂(其中不包括通式(I)所示的单体(I))的条件下在水性介质中将通式(I)所示的单体(I)聚合，由此得到含有单体(I)的聚合物的粗组合物的工序；将上述粗组合物中包含的单体(I)的二聚物和三聚物从上述粗组合物中除去，由此得到单体(I)的二聚物和三聚物的含量相对于聚合物(I)为1.0质量％以下的聚合物(I)的工序；和在聚合物(I)的存在下在水性介质中将含氟单体聚合，由此得到含氟聚合物的工序。CX1X3＝CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中，X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3；X2为H、F、烷基或含氟烷基；A0为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117417612A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311349659.3
申请日：2019-11-19
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种组合物和拉伸体，所述组合物包含聚四氟乙烯和聚合物(I)，该聚合物(I)包含基于下述通式(I)所示的单体的聚合单元(I)，该组合物的标准比重为2.200以下Cl连接基团。、CXH或1XCF3＝；3；ZCXA1和02为阴离子性基团R(Z2‑各自独立地为CZ1Z2‑A0)m(I)；H。X、(2F式中为、烷基或含氟烷基H、，FX、1烷基或含氟烷基和X3各自独立地为；m为1；以上RF为、的整数)。
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公开(公告)号：CN113717300B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202111048924.5
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 佐藤洋之
IPC: C08F2/26 , C08F114/26 , C08L27/18 , C08K5/098
Abstract: 本发明提供含氟聚合物的制造方法、聚合用表面活性剂和表面活性剂的使用。本发明涉及含氟聚合物的制造方法，其包括通过在表面活性剂的存在下在水性介质中进行氟单体的聚合而得到含氟聚合物的工序，该含氟聚合物的制造方法的特征在于，上述表面活性剂为选自由式：R1a‑CO‑R2a‑CO‑R3a‑Aa所表示的表面活性剂以及R1b‑CO‑(CR2b2)n‑(OR3b)p‑(CR4b2)q‑L‑Ab所表示的表面活性剂组成的组中的至少一种。
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公开(公告)号：CN111699203B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN201980011983.X
申请日：2019-02-07
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 细川萌 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，该含氟聚合物的制造方法包括下述工序：在表面活性剂的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，该制造方法的特征在于，上述表面活性剂由通式(1)：CR1R2R4‑CR3R5‑X‑A(式中，R1～R5为H或一价取代基，其中，R1和R3中的至少一者表示通式：‑Y‑R6所示的基团，R2和R5中的至少一者表示通式：‑X‑A所示的基团或通式：‑Y‑R6所示的基团。A在每次出现时相同或不同，为‑COOM、‑SO3M或‑OSO3M。)所表示。
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公开(公告)号：CN110461883B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN201880020239.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 佐藤洋之 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平
IPC: C08F2/26 , C08F14/18 , C07C305/04
Abstract: 本发明的目的在于提供含氟聚合物的新制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其包括：通过在表面活性剂的存在下在水性介质中进行氟单体的聚合而得到含氟聚合物的工序，该含氟聚合物的制造方法的特征在于，上述表面活性剂为选自由式：R1a‑CO‑R2a‑CO‑R3a‑OSO3Xa所表示的表面活性剂以及R1b‑CO‑(CR2b2)n‑(OR3b)p‑(CR4b2)q‑L‑OSO3Xb所表示的表面活性剂组成的组中的至少一种。
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