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公开(公告)号：CN117986414A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202410173998.9
申请日：2018-08-10
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于获得除去或减少了包含氟的化合物的聚四氟乙烯水性分散液。本发明涉及一种组合物，其特征在于，该组合物包含聚四氟乙烯，实质上不包含下述通式(3)所表示的化合物。通式(3)：(H‑(CF2)8‑SO3)qM2。
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公开(公告)号：CN113423557B
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202080012741.5
申请日：2020-02-07
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其特征在于，其断裂强度为10.0N以上，包含聚四氟乙烯，实质上不包含下述通式(3)所示的化合物。通式(3)：(H‑(CF2)8‑SO3)qM2(式中，M2为H、金属原子、NR54(R5可以相同也可以不同，为H或碳原子数1～10的有机基团)、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓。q为1或2。)。
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公开(公告)号：CN108473689B
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN201780007268.X
申请日：2017-08-04
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种制造方法，该方法能够容易地从低分子量聚四氟乙烯中除去通过放射线照射而生成的碳原子数为8以上14以下的全氟羧酸及其盐的大部分。一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，其包括下述工序：对聚四氟乙烯照射放射线，得到在380℃的熔融粘度为1×102～7×105Pa·s的低分子量聚四氟乙烯的工序(1)；将上述低分子量聚四氟乙烯粉碎的工序(2)；以及对在工序(2)中粉碎后的低分子量聚四氟乙烯进行热处理的工序(3)。
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公开(公告)号：CN110446723B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201880020278.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供含氟聚合物的新制造方法。本发明涉及含氟聚合物的制造方法，其包括通过在表面活性剂的存在下在水性介质中进行氟单体的聚合而得到含氟聚合物的工序，该含氟聚合物的制造方法的特征在于，上述表面活性剂为选自由式：R1a‑CO‑R2a‑CO‑R3a‑Aa所表示的表面活性剂以及R1b‑CO‑(CR2b2)n‑(OR3b)p‑(CR4b2)q‑L‑Ab所表示的表面活性剂组成的组中的至少一种。
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公开(公告)号：CN113563613A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110867632.8
申请日：2017-08-04
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，该方法能够容易地从低分子量聚四氟乙烯中除去通过放射线照射而生成的碳原子数为8以上14以下的全氟羧酸及其盐的大部分。一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，其包括下述工序：对聚四氟乙烯照射放射线，得到在380℃的熔融粘度为1×102～7×105Pa·s的低分子量聚四氟乙烯的工序(1)；将上述低分子量聚四氟乙烯粉碎的工序(2)；以及对在工序(2)中粉碎后的低分子量聚四氟乙烯在100℃～300℃的温度进行10秒～5小时的热处理的工序(3)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112771006A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201980062790.7
申请日：2019-10-03
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 提供一种从排水除去含氟化合物的方法，其特征在于，该方法包括下述吸附工序：使包含2种以上下述通式(1)或(2)所表示的含氟化合物的排水与吸附剂接触，由此使上述含氟化合物的2种以上吸附于该吸附剂。通式(1)：(H‑(CF2)m‑COO)pM1(式中，m为3～19，M1为H、金属原子、NRb4(Rb可以相同也可以不同，为H或碳原子数为1～10的有机基团)、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的磷鎓。p为1或2。)通式(2)：(H‑(CF2)n‑SO3)qM2(式中，n为4～20。M2为H、金属原子、NRb4(Rb与上述相同)、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的磷鎓。q为1或2。)
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公开(公告)号：CN111683999A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011986.3
申请日：2019-02-05
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种含有低分子量聚四氟乙烯的组合物的制造方法，其包括：(I)对含有高分子量聚四氟乙烯的组合物照射电离射线，得到含有380℃时的熔融粘度在1.0×102～7.0×105Pa·s的范围的低分子量聚四氟乙烯的组合物的工序；和(II)对含有上述低分子量聚四氟乙烯的组合物进行选自清洗处理、蒸气处理和减压处理中的至少1种的工序。
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公开(公告)号：CN110997735A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880050970.9
申请日：2018-08-10
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于获得除去或减少了包含氟的化合物的聚四氟乙烯水性分散液。本发明涉及一种精制聚四氟乙烯水性分散液的制造方法，其特征在于，该制造方法包括：由使用烃系表面活性剂得到的聚四氟乙烯水性分散液中除去或减少下述通式(1)或(2)所表示的化合物的工序。通式(1)：(H-(CF2)m-COO)pM1通式(2)：(H-(CF2)n-SO3)qM2。
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公开(公告)号：CN110446723A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201880020278.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供含氟聚合物的新制造方法。本发明涉及含氟聚合物的制造方法，其包括通过在表面活性剂的存在下在水性介质中进行氟单体的聚合而得到含氟聚合物的工序，该含氟聚合物的制造方法的特征在于，上述表面活性剂为选自由式：R1a-CO-R2a-CO-R3a-Aa所表示的表面活性剂以及R1b-CO-(CR2b2)n-(OR3b)p-(CR4b2)q-L-Ab所表示的表面活性剂组成的组中的至少一种。
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公开(公告)号：CN110997735B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN201880050970.9
申请日：2018-08-10
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于获得除去或减少了包含氟的化合物的聚四氟乙烯水性分散液。本发明涉及一种精制聚四氟乙烯水性分散液的制造方法，其特征在于，该制造方法包括：由使用烃系表面活性剂得到的聚四氟乙烯水性分散液中除去或
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