公开(公告)号：CN116640498B

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202310142082.2

申请日：2023-02-21

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山口史彦 ,  野村孝史 ,  内藤真人 ,  片冈真奈美 ,  G·托尔蒂西耶

IPC: C09D171/02 ,  C09D5/16 ,  C09D7/65 ,  C09D7/63 ,  C03C17/28 ,  C03C17/30

Abstract: 本发明提供一种具有摩擦耐久性更高的表面处理层的物品。该表面处理剂含有成分(A)和成分(B)，其中，成分(A)：含氟代聚醚基的硅烷化合物；成分(B)：含聚氧化烯基化合物。

公开(公告)号：CN117836388A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202280056889.8

申请日：2022-08-25

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 片冈真奈美 ,  野村孝史 ,  高野真也 ,  后藤章广 ,  渡边裕介

IPC: C09K3/18 ,  C08G65/336

Abstract: 本发明提供一种表面处理剂，其含有具有氟代聚醚基和硅烷基的含氟代聚醚基硅烷化合物，该表面处理剂中所含的与硅烷基的Si原子键合的Si键合基包含选自水解性基团的至少2种基团。

公开(公告)号：CN119698451A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202380058448.6

申请日：2023-08-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 片冈真奈美 ,  内藤真人 ,  久保田大贵 ,  高野真也 ,  松井元志 ,  山口史彦 ,  野村孝史

IPC: C09K3/18 ,  C07F7/18 ,  C08L83/00 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种含有(成分A)包含长链烷基结构的硅烷偶联剂和(成分B)包含硅氧烷结构的硅烷偶联剂的组合物。

公开(公告)号：CN118369206A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202380014974.2

申请日：2023-01-04

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 大下真介 ,  前平健 ,  内藤真人 ,  片冈真奈美 ,  三桥尚志 ,  野村孝史

IPC: B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  B32B27/00 ,  C23C14/08 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明涉及一种具有基材、中间层和表面处理层的物品，其中，上述中间层位于上述基材上，上述表面处理层位于上述中间层上，且由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂形成，上述中间层包含含Ce层。

公开(公告)号：CN116640498A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202310142082.2

申请日：2023-02-21

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山口史彦 ,  野村孝史 ,  内藤真人 ,  片冈真奈美 ,  G·托尔蒂西耶

IPC: C09D171/02 ,  C09D5/16 ,  C09D7/65 ,  C09D7/63 ,  C03C17/28 ,  C03C17/30

Abstract: 本发明提供一种具有摩擦耐久性更高的表面处理层的物品。该表面处理剂含有成分(A)和成分(B)，其中，成分(A)：含氟代聚醚基的硅烷化合物；成分(B)：含聚氧化烯基化合物。

公开(公告)号：CN119836427A

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202380058483.8

申请日：2023-08-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 高野真也 ,  久保田大贵 ,  中野希望 ,  片冈真奈美 ,  山口史彦 ,  野村孝史 ,  木村真理 ,  松井元志 ,  森本一树

IPC: C07F7/18 ,  C09K3/18 ,  G02B1/11 ,  G02B1/18 ,  G02B5/30 ,  G09F9/00

Abstract: 本发明提供以下式(1)所示的化合物。[式中，R1为包含1个以上的不直接键合羟基或水解性基团的Si原子的1价基团，X1为包含碳原子数11以上的亚烷基的2价的有机基团，RSi为包含键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团。]R1‑X1‑RSi(1)。

公开(公告)号：CN119677700A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202380058250.8

申请日：2023-08-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 内藤真人 ,  山口史彦 ,  片冈真奈美 ,  G·托尔蒂西耶 ,  松井元志 ,  半田晋也 ,  野村孝史

IPC: C03C17/30 ,  B32B17/06 ,  C07F7/18 ,  C09K3/18 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种包含玻璃和由下述式(1)所示的化合物形成的表面处理层的物品，R1‑X1‑RSi(1)[式中，R1为直链C11～36烷基，X1为单键或包含－CO－、－COO－、－NR2－、－CONR2－、－OCONR2－、－NR2－CO－NR2－、－O－或－S－的2价基团，R2为氢原子或C1－6烷基，RSi是包含结合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团。]。

公开(公告)号：CN117813362A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280056063.1

申请日：2022-08-12

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  前平健 ,  片冈真奈美 ,  内藤真人 ,  三桥尚志 ,  山口史彦

IPC: C09K3/18 ,  C08G65/22 ,  C08G65/336 ,  C08G67/00 ,  C09D5/16 ,  C09D183/04 ,  C09D7/20 ,  C09D7/63

Abstract: 本发明提供一种含有含氟代聚醚基硅烷化合物和低级氟代烷基醇的表面处理剂，相对于上述含氟代聚醚基硅烷化合物100质量份，该低级氟代烷基醇的含量为30质量份以下。

公开(公告)号：CN117043228A

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN202280023179.5

申请日：2022-03-09

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 松井元志 ,  野村孝史 ,  高野真也 ,  本多有佳里 ,  渡边裕介 ,  片冈真奈美 ,  后藤章广

IPC: C08G65/336

Abstract: 本发明提供一种式(A1)或(A2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物[式中，各符号的含义与说明书中的记载相同。]。#imgabs0#