公开(公告)号：CN119698451A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202380058448.6

申请日：2023-08-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 片冈真奈美 ,  内藤真人 ,  久保田大贵 ,  高野真也 ,  松井元志 ,  山口史彦 ,  野村孝史

IPC: C09K3/18 ,  C07F7/18 ,  C08L83/00 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种含有(成分A)包含长链烷基结构的硅烷偶联剂和(成分B)包含硅氧烷结构的硅烷偶联剂的组合物。

公开(公告)号：CN111670207B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN201980011171.5

申请日：2019-01-31

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 三桥尚志 ,  野村孝史 ,  内藤真人 ,  渡边裕介 ,  小泽香织 ,  高野真也 ,  P·胡普菲尔德

IPC: C08G65/336 ,  C03C17/32 ,  C08G65/00 ,  H04M1/02

Abstract: 一种电子设备，其至少在部分表面具有式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)或(C2)中的任一式所示的含氟代(聚)醚基的硅烷化合物形成的表面处理层。式中，PFPE在每次出现时分别独立地为式：－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3XF6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示且至少具有1个支链结构的基团、或者为式：－(R16－R17)j1－所示的基团。各符号的含义与说明书中的记载相同。

公开(公告)号：CN109072049B

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201780025484.7

申请日：2017-08-30

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 三桥尚志 ,  野村孝史 ,  能势雅聪 ,  内藤真人

IPC: C09K3/18 ,  C07F7/18 ,  C07C69/63

Abstract: 本发明提供一种表面处理剂，其含有至少1种下述式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物：[式中，各符号的意义与说明书中的记载相同。]和至少1种下述式(2)所示的羧酸酯化合物：[式中，各符号的意义与说明书中的记载相同。]，相对于式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和式(2)所示的羧酸酯化合物的总含量，式(2)所示的羧酸酯化合物的含量为4.1mol％以上35mol％以下，

公开(公告)号：CN107428929A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680019802.4

申请日：2016-03-31

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 高野真也 ,  野村孝史 ,  胜川健一 ,  内藤真人

IPC: C08G65/332 ,  C07C51/58 ,  C07C59/125

Abstract: 本发明提供一种全氟聚醚酰基氟的制造方法，其包括：在过渡金属催化剂的存在下，使用含甲酰基化合物，还原过氧化全氟聚醚的步骤。

公开(公告)号：CN119677700A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202380058250.8

申请日：2023-08-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 内藤真人 ,  山口史彦 ,  片冈真奈美 ,  G·托尔蒂西耶 ,  松井元志 ,  半田晋也 ,  野村孝史

IPC: C03C17/30 ,  B32B17/06 ,  C07F7/18 ,  C09K3/18 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种包含玻璃和由下述式(1)所示的化合物形成的表面处理层的物品，R1‑X1‑RSi(1)[式中，R1为直链C11～36烷基，X1为单键或包含－CO－、－COO－、－NR2－、－CONR2－、－OCONR2－、－NR2－CO－NR2－、－O－或－S－的2价基团，R2为氢原子或C1－6烷基，RSi是包含结合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团。]。

公开(公告)号：CN118786196A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202380024726.6

申请日：2023-03-01

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 波北悟 ,  森安礼奈 ,  野村孝史 ,  内藤真人 ,  G·托尔蒂西耶

IPC: C09K3/18 ,  C08L83/04 ,  C08L71/02

Abstract: 本发明提供一种含有成分(A)：交联性化合物、和成分(B)：非氟拨液性化合物的组合物，其满足下述式：Pb－Pc＞0[式中：Pb为由上述非氟拨液性化合物形成的层的表面自由能中的极性分量比的值，Pc为由上述组合物形成的层的表面自由能中的极性分量比的值。]。

公开(公告)号：CN118725281A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410963814.9

申请日：2020-09-09

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 池内秀幸 ,  内藤真人 ,  松井元志 ,  野村孝史

IPC: C08G65/331 ,  C08G65/333 ,  C08G65/336

Abstract: 本发明提供一种式(1a)或式(1b)所示的含氟代聚醚基化合物(式中，各符号的含义与说明书中的记载相同)。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118440312A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202410593700.X

申请日：2020-09-09

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 池内秀幸 ,  内藤真人 ,  松井元志 ,  野村孝史

IPC: C08G65/338 ,  C08G65/336 ,  C08G65/333 ,  C08G65/326 ,  C09D171/02

Abstract: 本发明涉及由以下式：R3－CH2－X3－A3(Z3－CH＝CH2)3表示的化合物。式中，A3为C或Si；在A3为C时，R3为甲酰基、羧基、叠氮基、乙炔基、NH2NHC(＝O)－或(CH3)3COC(＝O)NHNHC(＝O)－，在A3为Si时，R3为甲酰基、叠氮基、乙炔基、NH2NHC(＝O)－或(CH3)3COC(＝O)NHNHC(＝O)－；X3为单键或2价的有机基团；Z3为C1－4亚烷基。

公开(公告)号：CN114729117B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202080080491.9

申请日：2020-11-19

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 松井元志 ,  池内秀幸 ,  内藤真人 ,  小泽香织 ,  前平健 ,  野村孝史 ,  三桥尚志 ,  高野真也

IPC: C08G65/336 ,  C07F7/18 ,  C08L71/00 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明提供一种式(1a)或式(1b)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物。式中，各符号的含义与说明书的记载相同。RF1α‑XA‑RSiβ(1a)RSiγ‑XA‑RF2‑XA‑RSiγ(1b)。

公开(公告)号：CN117813362A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280056063.1

申请日：2022-08-12

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  前平健 ,  片冈真奈美 ,  内藤真人 ,  三桥尚志 ,  山口史彦

IPC: C09K3/18 ,  C08G65/22 ,  C08G65/336 ,  C08G67/00 ,  C09D5/16 ,  C09D183/04 ,  C09D7/20 ,  C09D7/63

Abstract: 本发明提供一种含有含氟代聚醚基硅烷化合物和低级氟代烷基醇的表面处理剂，相对于上述含氟代聚醚基硅烷化合物100质量份，该低级氟代烷基醇的含量为30质量份以下。