公开(公告)号：CN1076396C

公开(公告)日：2001-12-19

申请号：CN95191326.3

申请日：1995-01-25

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 毛冢健彦 ,  板野充司 ,  久保元伸

IPC: C11D7/08 ,  C11D7/28 ,  C11D7/32

CPC classification number: H01L21/02052 ,  C11D1/004 ,  C11D3/042 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047

Abstract: 用由0.1～4重量%的氢氟酸、50～1500ppm浓度的以下述通式(1)表示的表面活性剂或50～100000ppm浓度的以下述通式(2)或者(3)表示的表面活性剂和水组成的洗涤剂及用该洗涤剂清洗硅片表面的洗涤方法，RfCOONH4(1)(式中Rf是碳原子数5～9的含氟烃基)Rf'O(CH2CH2O)nR(2)Rf'(CH2CH2O)nR(3)(式中Rf'是碳原子数5～15的含氟烃基，R是氢或碳原子数1～4的烷基，n是5～20)。