一种适用于大尺寸KDP晶体超精密高效抛光装置与方法

    公开(公告)号:CN114378704A

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202210037263.4

    申请日:2022-01-13

    Abstract: 本发明公开了一种适用于大尺寸KDP晶体超精密高效抛光装置与方法,所述的抛光装置包括支撑单元、精密水平运动滑台、工件抛光夹持单元、多点浓度连续可调控抛光液供给单元、底座、精密回转工作台、抛光垫修整单元、在线测量单元、抛光残液连续吸除回收单元和设备控制系统单元;所述的抛光方法包括粗抛光加工、精抛光加工、超精密抛光加工三个阶段,每个加工阶段采用不同种类的抛光液,通过控制系统可实现大尺寸KDP晶体的全口径粗、精、超精密多工序一体化抛光加工,具有显著的加工效率高、加工精度高等特色。本发明既能够实现大尺寸KDP晶体超精密抛光加工,又能提高加工效率,实现大尺寸KDP的高效、高质、近无损伤超精密加工。

    一种抛光液多点可变位自动滴液的控制方法

    公开(公告)号:CN110977622B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201911286514.7

    申请日:2019-12-13

    Inventor: 高航 程志鹏

    Abstract: 本发明公开了一种抛光液多点可变位自动滴液的控制方法,利用自动滴液装置进行控制,所述装置包括升降单元、旋转单元、移动单元、滴液单元和控制单元;所述控制单元通过控制线路连接升降单元、旋转单元、移动单元、滴液单元和储液单元。本发明通过升降单元、旋转单元、移动单元实现滴液单元在竖直方向的高度、水平面上的距离和角度可调;通过滴液单元实现抛光液的多点滴定;通过控制单元实现对各个单元的自动控制,实现抛光液多点滴定自动化;本发明解决了抛光液滴定位置单一、种类单一、分布不均匀的问题,实现了抛光液滴定的流量可控、数量可控、位置可控,使抛光液从多个位置均匀稳定的滴定到抛光设备上,从而大大提高和改善抛光效果。

    一种适用于大尺寸KDP晶体超精密高效抛光装置与方法

    公开(公告)号:CN114378704B

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202210037263.4

    申请日:2022-01-13

    Abstract: 本发明公开了一种适用于大尺寸KDP晶体超精密高效抛光装置与方法,所述的抛光装置包括支撑单元、精密水平运动滑台、工件抛光夹持单元、多点浓度连续可调控抛光液供给单元、底座、精密回转工作台、抛光垫修整单元、在线测量单元、抛光残液连续吸除回收单元和设备控制系统单元;所述的抛光方法包括粗抛光加工、精抛光加工、超精密抛光加工三个阶段,每个加工阶段采用不同种类的抛光液,通过控制系统可实现大尺寸KDP晶体的全口径粗、精、超精密多工序一体化抛光加工,具有显著的加工效率高、加工精度高等特色。本发明既能够实现大尺寸KDP晶体超精密抛光加工,又能提高加工效率,实现大尺寸KDP的高效、高质、近无损伤超精密加工。

    一种抛光液多点可变位自动滴液的控制方法

    公开(公告)号:CN110977622A

    公开(公告)日:2020-04-10

    申请号:CN201911286514.7

    申请日:2019-12-13

    Inventor: 高航 程志鹏

    Abstract: 本发明公开了一种抛光液多点可变位自动滴液的控制方法,利用自动滴液装置进行控制,所述装置包括升降单元、旋转单元、移动单元、滴液单元和控制单元;所述控制单元通过控制线路连接升降单元、旋转单元、移动单元、滴液单元和储液单元。本发明通过升降单元、旋转单元、移动单元实现滴液单元在竖直方向的高度、水平面上的距离和角度可调;通过滴液单元实现抛光液的多点滴定;通过控制单元实现对各个单元的自动控制,实现抛光液多点滴定自动化;本发明解决了抛光液滴定位置单一、种类单一、分布不均匀的问题,实现了抛光液滴定的流量可控、数量可控、位置可控,使抛光液从多个位置均匀稳定的滴定到抛光设备上,从而大大提高和改善抛光效果。

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