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发明公开
吸附工作台以及基板处理装置失效

公开(公告)号：CN101178543A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200710137033.0

申请日：2007-07-19

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高木善则 , 大森雅文 , 高井武

IPC: G03F7/16 , G02F1/1333 , B23Q3/08 , H01L21/683 , B25H1/00

Abstract: 一种吸附工作台及基板处理装置，在抑制成本增加和涂布不良的同时，改善大气在基板背面的循环。在基板处理装置的吸附工作台(3)的上表面(30)上形成呈格子状的开放槽(34)。开放槽(34)在吸附工作台(3)保持着基板(90)的状态下也开放于大气。在由开放槽(34)隔开的保持部(35)的保持面(36)上设置有吸附孔(37)和吸附槽(38)，并使吸附孔(37)和吸附槽(38)连通。吸附槽(38)在吸附工作台(3)保持着基板(90)的状态下不开放于大气。进而，使吸附孔(37)和排气机构连通。在吸附工作台(3)保持基板(90)时，从排气机构吸引空气，利用吸附孔(37)和吸附槽(38)吸附基板(90)的背面。

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