公开(公告)号：CN100543931C

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200710127899.3

申请日：2007-07-17

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫胜彦 ,  藤原直澄 ,  泉昭

IPC: H01L21/00 ,  B08B7/00

CPC classification number: B08B7/0014 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜的基板处理装置、液膜冻结方法以及使用该液膜冻结方法的基板处理方法。从冷却气体排放喷嘴向形成了液膜的基板表面局部的排放冷却气体。然后，在旋转基板的同时，使冷却气体排放喷嘴沿着移动轨迹从基板的旋转中心位置向基板的端缘位置摇动。由此，在基板表面的表面区域中，冻结了液膜的区域(冻结区域)从基板表面的中央部向周缘部扩散。因此，冷却气体的供给部位被限定在基板表面上的一部分区域，从而能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜。

公开(公告)号：CN101145502A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710127899.3

申请日：2007-07-17

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫胜彦 ,  藤原直澄 ,  泉昭

IPC: H01L21/00 ,  B08B7/00

CPC classification number: B08B7/0014 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜的基板处理装置、液膜冻结方法以及使用该液膜冻结方法的基板处理方法。从冷却气体排放喷嘴向形成了液膜的基板表面局部的排放冷却气体。然后，在旋转基板的同时，使冷却气体排放喷嘴沿着移动轨迹从基板的旋转中心位置向基板的端缘位置摇动。由此，在基板表面的表面区域中，冻结了液膜的区域(冻结区域)从基板表面的中央部向周缘部扩散。因此，冷却气体的供给部位被限定在基板表面上的一部分区域，从而能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜。