公开(公告)号：CN1464798A

公开(公告)日：2003-12-31

申请号：CN02802472.9

申请日：2002-07-22

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 村冈祐介 ,  三宅孝志 ,  齐藤公续 ,  岩田智巳 ,  石井孝彦 ,  坂下由彦 ,  渡边克充

IPC: B01J3/00 ,  B01J3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02 ,  C23G5/00

Abstract: 本发明涉及高压处理装置和高压处理方法，不仅简单地从供给喷嘴(13、13)向基板(W)的表面供给处理流体，而且由各个供给喷嘴13供给的处理流体的流动方向(R1，R1)，在基板(W)表面内相互错开。因此，在基板(W)的表面上，形成处理流体的旋转流(TF)，处理流体与基板(W)的表面接触，进行规定的表面处理(洗净处理，第一次冲洗处理，第二次冲洗处理，干燥处理等)。

公开(公告)号：CN1173387C

公开(公告)日：2004-10-27

申请号：CN02127003.1

申请日：2002-07-25

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 岩田智巳 ,  村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  沟端一国雄 ,  三宅孝志 ,  北门龙治

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67161 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0075 ,  C03C23/0085 ,  H01L21/67173

Abstract: 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。

公开(公告)号：CN100366332C

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN02802472.9

申请日：2002-07-22

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 村冈祐介 ,  三宅孝志 ,  齐藤公续 ,  岩田智巳 ,  石井孝彦 ,  坂下由彦 ,  渡边克充

IPC: B01J3/00 ,  B01J3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02 ,  C23G5/00

Abstract: 本发明涉及高压处理装置和高压处理方法，不仅简单地从供给喷嘴(13、13)向基板(W)的表面供给处理流体，而且由各个供给喷嘴13供给的处理流体的流动方向(R1，R1)，在基板(W)表面内相互错开。因此，在基板(W)的表面上，形成处理流体的旋转流(TF)，处理流体与基板(W)的表面接触，进行规定的表面处理(洗净处理，第一次冲洗处理，第二次冲洗处理，干燥处理等)。

公开(公告)号：CN1400635A

公开(公告)日：2003-03-05

申请号：CN02127003.1

申请日：2002-07-25

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 岩田智巳 ,  村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  沟端一国雄 ,  三宅孝志 ,  北门龙治

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67161 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0075 ,  C03C23/0085 ,  H01L21/67173

Abstract: 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。

公开(公告)号：CN1766645A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200510106329.7

申请日：2005-09-22

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 三宅孝志 ,  西洼宏昭

IPC: G01N35/00 ,  G01N31/20 ,  C12M1/00 ,  C12N15/00 ,  C12Q1/00

CPC classification number: B01F5/0641 ,  B01F5/0646 ,  B01F5/0647 ,  B01F13/0059 ,  B01J19/0093 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00873 ,  B01J2219/00889

Abstract: 本发明涉及一种具有形成通道的沟槽的通道结构及其制造方法。在微型反应器中，由第一基板(11)和层叠在第一基板(11)上的中间基板(12)形成沟槽，而且该沟槽的开口由用作盖元件的第二基板(13)封闭以形成供流体流动的微型通道。中间基板(12)包括通道区域(120)，该通道区域(120)包括：形成部分微型通道的通孔；以及板状连接部(122)，其比该通道区域(120)两侧的部分薄，用于沿纵向在微型通道的预定位置使所述两侧的部分连接。在该微型反应器中，在形成和处理中间基板(12)的过程中可容易地将中间基板(12)作为一个元件进行处理，并可简化制造该微型反应器的过程。