公开(公告)号：CN103295936A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201310058542.X

申请日：2013-02-25

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 根来世 ,  村元僚 ,  林豊秀 ,  桥本光治 ,  永井泰彦

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67023 ,  C23C16/46 ,  C23C16/48 ,  C23C16/481 ,  C23C16/482 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/6708

Abstract: 基板处理装置用于对基板的主面施行利用药液的处理。该基板处理装置包括：基板保持单元，其用于保持基板；药液供给单元，其具有用于向上述基板保持单元所保持的基板的主面供给药液的药液喷嘴；加热器，其直径小于基板的直径，并且具有红外线灯，该加热器与上述基板保持单元所保持的基板的主面相向配置，通过从上述红外线灯照射红外线来对供给至基板的主面的药液进行加热；加热器移动单元，其用于使上述加热器沿着上述基板保持单元所保持的基板的主面移动。

公开(公告)号：CN104205304A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201280072046.3

申请日：2012-09-07

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 桥本光治 ,  宫城雅宏 ,  高桥光和

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67751

Abstract: 基板处理装置(1)具有：基板保持单元(5)，其将基板保持为水平姿势；板(8)，其具有水平且平坦的液体保持面(11)，所述液体保持面(11)具有与被所述基板保持单元(5)保持的基板的主面相同或比该主面大的大小，且与所述基板的主面的下方相向；处理液供给单元(20)，其用于向所述液体保持面(5)供给处理液；移动单元(29)，其使所述基板保持单元(5)以及所述板(8)相对移动，来使基板的主面与液体保持面接近或分离；控制单元(50)。控制单元(50)控制所述处理液供给单元(20)以及所述移动单元(29)，执行通过所述处理液供给单元(20)向所述液体保持面(11)供给处理液，在所述液体保持面上形成处理液液膜的处理液液膜形成工序、通过所述移动单元(29)使所述基板的主面与所述液体保持面(11)接近，由此使基板的主面与所述处理液液膜接触的接触工序、在执行所述接触工序后维持处理液与所述基板的主面接触的状态的接触维持工序。