公开(公告)号：CN118414579A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202280083904.8

申请日：2022-12-21

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 今野冬木 ,  神立彩子 ,  三好建也 ,  富永贵司

IPC: G03F1/29 ,  G03F1/32 ,  G02B5/18 ,  G02B5/20

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够通过接近式曝光来实现转印图案的尺寸的微细化及锥角的增大的光掩模。本发明提供一种接近式曝光用光掩模，其是接近式曝光用的光掩模，其具有透明基板、及配置于上述透明基板上的遮光膜，上述遮光膜具有：遮光主部，其形成有大致多边形或大致圆形的开口部；及遮光辅助图案，其配置于上述遮光主部的上述开口部的内侧且与上述遮光主部隔开间隔地形成；上述遮光膜是具有对于曝光的光而使相位偏移180度±45度的相移作用并且上述曝光的光的透射率为1％以上且10％以下的相移膜。

公开(公告)号：CN112119352B

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN201980032507.6

申请日：2019-03-14

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 今野冬木 ,  三好建也

IPC: G03F1/58 ,  G03F1/46

Abstract: 本发明提供一种大型光掩模，其特征在于，其为包含透光性基板、及设于上述透光性基板的表面的遮光图案的大型光掩模，上述遮光图案具有第1低反射膜、遮光性膜及第2低反射膜自上述透光性基板侧起按照该顺序层叠而成的层叠结构，且上述遮光图案的上述透光性基板侧的面对313nm～436nm的波长区域的光的反射率为8％以下。

公开(公告)号：CN1327360A

公开(公告)日：2001-12-19

申请号：CN01117383.1

申请日：2001-02-23

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 青木大吾 ,  冈部将人 ,  小林弘典 ,  山本学 ,  三好建也 ,  新井浩次 ,  岸本比吕志

IPC: H05B33/12 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/0014 ,  H01L27/3239 ,  H01L27/3241 ,  H01L27/3281 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0023 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种可简便制造的EL元件及其制造方法,EL元件是至少由第1电极、在该第1电极上形成的EL层和在该EL层上形成的第2电极所形成的EL元件,至少形成1层由光照射产生润湿性变化成分层。

公开(公告)号：CN115280237A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202180019628.4

申请日：2021-03-17

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 浴冈秀明 ,  三好建也 ,  今野冬木

IPC: G03F1/40 ,  G03F1/54

Abstract: 本发明提供一种光掩模坯料，其具有透明基板、以及配置于上述透明基板的一个面且包含铬系材料的遮光膜，上述遮光膜的薄层电阻为103Ω/□以上且107Ω/□以下。

公开(公告)号：CN112119352A

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN201980032507.6

申请日：2019-03-14

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 今野冬木 ,  三好建也

IPC: G03F1/58 ,  G03F1/46

Abstract: 本发明提供一种大型光掩模，其特征在于，其为包含透光性基板、及设于上述透光性基板的表面的遮光图案的大型光掩模，上述遮光图案具有第1低反射膜、遮光性膜及第2低反射膜自上述透光性基板侧起按照该顺序层叠而成的层叠结构，且上述遮光图案的上述透光性基板侧的面对313nm～436nm的波长区域的光的反射率为8％以下。

公开(公告)号：CN100551186C

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200510114025.5

申请日：2001-02-23

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 青木大吾 ,  冈部将人 ,  小林弘典 ,  山本学 ,  三好建也 ,  新井浩次 ,  岸本比吕志

IPC: H05B33/12 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明提供一种可简便制造的EL元件及其制造方法，EL元件是至少由第1电极、在该第1电极上形成的EL层和在该EL层上形成的第2电极所形成的EL元件，至少形成1层由光照射产生润湿性变化成分层。

公开(公告)号：CN1263352C

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN01117383.1

申请日：2001-02-23

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 青木大吾 ,  冈部将人 ,  小林弘典 ,  山本学 ,  三好建也 ,  新井浩次 ,  岸本比吕志

IPC: H05B33/12 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/0014 ,  H01L27/3239 ,  H01L27/3241 ,  H01L27/3281 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0023 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种可简便制造的EL元件及其制造方法，EL元件是至少由第1电极、在该第1电极上形成的EL层和在该EL层上形成的第2电极所形成的EL元件，至少形成1层由光照射产生润湿性变化成分层。

公开(公告)号：CN1770938A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200510114025.5

申请日：2001-02-23

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 青木大吾 ,  冈部将人 ,  小林弘典 ,  山本学 ,  三好建也 ,  新井浩次 ,  岸本比吕志

IPC: H05B33/12 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明提供一种可简便制造的EL元件及其制造方法，EL元件是至少由第1电极、在该第1电极上形成的EL层和在该EL层上形成的第2电极所形成的EL元件，至少形成1层由光照射产生润湿性变化成分层。