静电放电保护元件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1252815C

    公开(公告)日:2006-04-19

    申请号:CN03142360.4

    申请日:2003-06-10

    Abstract: 本发明提供一种要用于具有MOSFET的半导体集成电路的静电放电保护元件,包括闸流晶体管和用于将闸流晶体管触发到导通状态的触发二极管,将闸流晶体管和触发二极管形成在单一的半导体衬底中,其中,触发二极管设有n型阴极高浓度掺杂区、p型阳极高浓度掺杂区、以及在两个高浓度掺杂区之间形成的栅极,由与形成半导体集成电路的MOSFET的栅极的材料相同的材料构成所述栅极,而且闸流晶体管具有形成阴极的p型高浓度掺杂区和形成阳极的n型高浓度掺杂区,以及在p型阱中设有p型高浓度掺杂区,并通过电阻与导线相连,和/或在n型阱中设有n型高浓度掺杂区,并通过电阻与导线相连,触发二极管的n型阴极高浓度掺杂区和闸流晶体管的n型高浓度掺杂区通过n型阱彼此相连;触发二极管的p型阳极高浓度掺杂区和闸流晶体管的p型高浓度掺杂区通过p型阱彼此相连。

    静电放电保护元件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1471166A

    公开(公告)日:2004-01-28

    申请号:CN03142360.4

    申请日:2003-06-10

    Abstract: 本发明提供一种要用于具有MOSFET的半导体集成电路的静电放电保护元件,包括闸流晶体管和用于将闸流晶体管触发到导通状态的触发二极管,其中,触发二极管设有n型阴极高浓度掺杂区、p型阳极高浓度掺杂区、以及在两个高浓度掺杂区之间形成的栅极,由与形成半导体集成电路的MOSFET的栅极的材料相同的材料构成所述栅极,而且闸流晶体管具有形成阴极的p型高浓度掺杂区和形成阳极的n型高浓度掺杂区,以及在p型阱中设有p型高浓度掺杂区,并与电阻相连,和/或在n型阱中设有n型高浓度掺杂区,并与电阻相连。

Patent Agency Ranking