半导体装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100397625C

    公开(公告)日:2008-06-25

    申请号:CN200510073914.1

    申请日:2005-05-23

    Abstract: 本发明的半导体装置由于具备在基底材料上配置了多个布线的布线基板、在上述布线基板上搭载的半导体元件、包含混合了金属离子结合剂的材料的与布线接触的构件、或者向表面添加了金属离子结合剂的布线,因此能够防止因金属离子从布线析出而导致的迁移发生,能够提供高可靠性的半导体装置。

    半导体装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1707779A

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN200510073914.1

    申请日:2005-05-23

    Abstract: 本发明的半导体装置由于具备在基底材料上配置了多个布线的布线基板、在上述布线基板上搭载的半导体元件、包含混合了金属离子结合剂的材料的与布线接触的构件、或者向表面添加了金属离子结合剂的布线,因此能够防止因金属离子从布线析出而导致的迁移发生,能够提供高可靠性的半导体装置。

    半导体元件
    3.
    外观设计

    公开(公告)号:CN3464099D

    公开(公告)日:2005-07-27

    申请号:CN200430066928.7

    申请日:2004-07-19

    Designer: 木户口贵

    Abstract: 参考图1、2中阴影线所示为半透明区域。

    半导体元件
    5.
    外观设计

    公开(公告)号:CN3444273D

    公开(公告)日:2005-05-04

    申请号:CN200430066929.1

    申请日:2004-07-19

    Designer: 木户口贵

    Abstract: 参考图1、2中阴影线所示为半透明区域。

    半导体元件
    6.
    外观设计

    公开(公告)号:CN3440829D

    公开(公告)日:2005-04-20

    申请号:CN200430066927.2

    申请日:2004-07-19

    Designer: 木户口贵

    Abstract: 使用状态参考图1、2中阴影线所示为半透

    半导体元件
    7.
    外观设计

    公开(公告)号:CN3466988D

    公开(公告)日:2005-08-10

    申请号:CN200430066922.X

    申请日:2004-07-19

    Designer: 木户口贵

    Abstract: 参考图1、2中阴影线所示为半透明区域。

    半导体元件
    9.
    外观设计

    公开(公告)号:CN3444278D

    公开(公告)日:2005-05-04

    申请号:CN200430066938.0

    申请日:2004-07-19

    Designer: 木户口贵

    Abstract: 参考图1、2中阴影线所示为半透明区域。

    半导体元件
    10.
    外观设计

    公开(公告)号:CN3444274D

    公开(公告)日:2005-05-04

    申请号:CN200430066930.4

    申请日:2004-07-19

    Designer: 木户口贵

    Abstract: 示出透明部分参考图1、2中阴影线所示的

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