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公开(公告)号：CN106770401A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710052608.2
申请日：2017-01-24
Applicant: 复旦大学
IPC: G01N23/203 , G01N1/28
Abstract: 本发明属于氢氦同位素测量技术领域，具体为一种氢氦同位素核散射截面的测量方法。本发明采用磁控溅射沉积的方法制备出一种薄膜复合靶，复合靶的组成主要包含三部分：一是薄膜衬底；二是富含被测量元素的薄膜层；三是覆盖于富含被测量元素的薄膜之上的极薄的覆盖层，这层覆盖层不仅能有效阻止被测量元素在保存和测量过程中从薄膜中脱附，而且可以在测量过程中起到对入射粒子剂量标定的作用。本发明通过确定实验参数，再根据截面公式精确得出在特定角度位置一定能量范围内的微分散射截面。这种相对测量法避免了在对入射离子数Q、立体角Ω测量过程中造成的误差，使得测量精确度可以大大提高。
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