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公开(公告)号：CN114283959B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202111486120.3
申请日：2021-12-07
Applicant: 复旦大学
IPC: G21K1/06
Abstract: 本发明属于同步辐射软X射线透镜技术领域，具体为一种同步辐射高分辨软X射线透镜及其制备方法。本发明的同步辐射高分辨软X射线透镜，其结构从下到上依次为：硅基底，氮化硅隔膜，由模板材料与非金属介质材料组成的X射线透镜；X射线透镜采用电子束光刻与ALD工艺制备得到，包括：在氮化硅隔膜上旋涂光刻胶，利用电子束光刻技术在光刻胶上曝光并显影形成模板结构，利用ALD工艺生长非金属介质材料，最后利用套刻与热蒸发工艺制备光束阻挡器，得到该透镜。本发明方法工艺稳定可靠、制备周期缩短、与现有的光刻工艺兼容；制备的软X射线透镜聚焦效率高、分辨率高，适合于对生物细胞、有机材料和介质材料等的X射线高衬度三维成像。
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公开(公告)号：CN119882358A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510060753.X
申请日：2025-01-15
Applicant: 复旦大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明属于微纳加工技术领域，具体为一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法。本发明通过在已有结构周围引入辅助图案，使得辅助图案与顶层光刻胶共同形成保护屏障，有效覆盖结构的侧面，将大面积挡光区套刻至光刻胶浸润性差的工作区上，确保硬X射线光子筛工作区在加工过程中不受损害，从而保证最终产品的高性能和稳定性；具体包括器件的工作区、辅助图案及挡光区的加工，并在薄膜窗口上完成；其工艺流程包括光刻、金属化、去胶、套刻、金属化和去胶。本发明方法具有提高套刻精度、节约电子束光刻时间、缩短工艺时间等优势；适用于对生物细胞、有机材料及介质材料等进行硬X射线高衬度成像。
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公开(公告)号：CN114283959A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202111486120.3
申请日：2021-12-07
Applicant: 复旦大学
IPC: G21K1/06
Abstract: 本发明属于同步辐射软X射线透镜技术领域，具体为一种同步辐射高分辨软X射线透镜及其制备方法。本发明的同步辐射高分辨软X射线透镜，其结构从下到上依次为：硅基底，氮化硅隔膜，由模板材料与非金属介质材料组成的X射线透镜；X射线透镜采用电子束光刻与ALD工艺制备得到，包括：在氮化硅隔膜上旋涂光刻胶，利用电子束光刻技术在光刻胶上曝光并显影形成模板结构，利用ALD工艺生长非金属介质材料，最后利用套刻与热蒸发工艺制备光束阻挡器，得到该透镜。本发明方法工艺稳定可靠、制备周期缩短、与现有的光刻工艺兼容；制备的软X射线透镜聚焦效率高、分辨率高，适合于对生物细胞、有机材料和介质材料等的X射线高衬度三维成像。
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