一种二硫化钼基可见至近红外InGaAs探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN108831951A

    公开(公告)日:2018-11-16

    申请号:CN201810592793.9

    申请日:2018-06-11

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明属于探测器技术领域,具体为一种二硫化钼基可见至近红外InGaAs探测器及其制备方法。本发明探测器结构包括:采用磷化铟作为衬底材料,在衬底上依次生长InP接触层、铟镓砷吸收层、氧化硅介质层;氧化硅介质层中央开方孔,在氧化硅介质层上转移二硫化钼层,二硫化钼层填充氧化硅介质层方孔,与所述铟镓砷吸收层形成肖特基接触,在二硫化钼层与氧化硅介质层接触区域上方生长上金属电极,在所述InP接触层一侧上生长下金属电极。本发明InGaAs探测器能够实现近红外到可见光范围的宽光谱探测。

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