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公开(公告)号:CN100476020C
公开(公告)日:2009-04-08
申请号:CN200610148157.4
申请日:2006-12-28
Applicant: 复旦大学
IPC: C23C16/32 , C23C16/02 , C23C16/448 , C23C16/503 , C23C16/52
Abstract: 本发明属薄膜制备技术领域,具体为一种直流放电活性原子束喷射制备氮化钛纳米薄膜的方法。该方法利用一台弧热等离子束源来分解甲烷和氮气,出射离子束由高密度的中性氮原子和甲基构成,强度为1019-1020原子/弧度.秒。出射束粒子达到衬底,使得在低衬底温度(小于200摄氏度)合成氮化碳薄膜。合成的薄膜由致密的为21-50纳米的球形晶粒构成,晶粒主要是β-C3N4、石墨相C3N4和CNx结构。
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公开(公告)号:CN1986878A
公开(公告)日:2007-06-27
申请号:CN200610148157.4
申请日:2006-12-28
Applicant: 复旦大学
IPC: C23C16/32 , C23C16/02 , C23C16/448 , C23C16/503 , C23C16/52
Abstract: 本发明属薄膜制备技术领域,具体为一种直流放电活性原子束喷射制备氮化钛纳米薄膜的方法。该方法利用一台弧热等离子束源来分解甲烷和氮气,出射离子束由高密度的中性氮原子和甲基构成,强度为1019-1020原子/弧度.秒。出射束粒子达到衬底,使得在低衬底温度(小于200摄氏度)合成氮化碳薄膜。合成的薄膜由致密的为21-50纳米的球形晶粒构成,晶粒主要是β-C3N4、石墨相C3N4和CNx结构。
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