等离子体溅射反应沉积制备石墨相氮化碳纳米锥阵列的方法

    公开(公告)号:CN107352518A

    公开(公告)日:2017-11-17

    申请号:CN201710603344.5

    申请日:2017-07-22

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明属于纳米薄膜制备技术领域,具体为一种等离子体溅射反应沉积制备氮化碳纳米锥的方法。本方法利用一台辉光放电装置来分解前驱气体甲烷、氮气和氢气,出射等离子体由高密度的碳氢活性基团,碳氮活性基团,氮气分子,氮气分子离子,氢原子和碳二分子构成。制备过程包括:采用脉冲激光沉积方法,在光滑衬底材料表面沉积镍膜;采用等离子体溅射反应沉积方法,利用辉光放电装置,将覆盖镍膜的衬底转移到放电室中;将甲烷/氮氢气混合气体通入放电室,启动辉光放电,通过调节放电电流与放电电压,控制沉积g-C3N4纳米锥的锐度。合成的纳米锥由垂直基底的底部直径为200-1000纳米,长径比2:1-5:1的纳米级锥尖阵列构成,锥体主要是石墨相C3N4结构。

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