公开(公告)号：CN1685285B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN03823350.9

申请日：2003-08-28

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： 马芒德·M·科贾斯特 ,  陈光荣 ,  普什卡拉·R·瓦拉纳西 ,  西村行雄 ,  小林英一

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 一种能够用193nm射线和/或可能的其他射线成像并且能够显影形成显影性能和抗蚀性均得以改善的抗蚀剂结构的酸催化正抗蚀剂组合物，可以通过使用含成像聚合物组分的抗蚀剂组合物得到，成像聚合物组分包含具有单体单元的酸敏性聚合物，这些单体单元具有含远端酸不稳定性部分的侧基。

公开(公告)号：CN1685285A

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN03823350.9

申请日：2003-08-28

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 马芒德·M·科贾斯特 ,  陈光荣 ,  普什卡拉·R·瓦拉纳西 ,  西村行雄 ,  小林英一

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 一种能够用193nm射线和/或可能的其他射线成像并且能够显影形成显影性能和抗蚀性均得以改善的抗蚀剂结构的酸催化正抗蚀剂组合物，可以通过使用含成像聚合物组分的抗蚀剂组合物得到，成像聚合物组分包含具有单体单元的酸敏性聚合物，这些单体单元具有含远端酸不稳定性部分的侧基。