公开(公告)号：CN103930828B

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201280055029.9

申请日：2012-11-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 陈光荣 ,  黄武松 ,  刘森 ,  S·J·霍姆斯 ,  G·博雷塔

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/26 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及改进分辨率的杂化光致抗蚀剂组合物和使用该光致抗蚀剂组合物的图案形成方法。所述光致抗蚀剂组合物包括辐射敏感性酸产生剂、交联剂和具有疏水性单体单元和含羟基的亲水性单体单元的聚合物。所述羟基中的至少一些用具有低活化能的酸不稳定性结构部分保护。所述光致抗蚀剂能够对单一曝光产生杂化响应。所述图案形成方法利用所述杂化响应以在所述光致抗蚀剂层中形成图案化的结构。本发明的光致抗蚀剂组合物和图案形成方法可用于印刷具有精确图像控制的小特征，尤其是小尺寸的空间。

公开(公告)号：CN103930828A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201280055029.9

申请日：2012-11-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 陈光荣 ,  黄武松 ,  刘森 ,  S·J·霍姆斯 ,  G·博雷塔

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/26 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及改进分辨率的杂化光致抗蚀剂组合物和使用该光致抗蚀剂组合物的图案形成方法。所述光致抗蚀剂组合物包括辐射敏感性酸产生剂、交联剂和具有疏水性单体单元和含羟基的亲水性单体单元的聚合物。所述羟基中的至少一些用具有低活化能的酸不稳定性结构部分保护。所述光致抗蚀剂能够对单一曝光产生杂化响应。所述图案形成方法利用所述杂化响应以在所述光致抗蚀剂层中形成图案化的结构。本发明的光致抗蚀剂组合物和图案形成方法可用于印刷具有精确图像控制的小特征，尤其是小尺寸的空间。