一种真空离子溅射镀膜机及超薄薄膜连续金属化方法

    公开(公告)号:CN116200710A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202211658113.1

    申请日:2022-12-22

    Abstract: 本发明涉及一种真空离子溅射镀膜机及超薄薄膜连续金属化方法。该真空离子溅射镀膜机包括真空罩、靶材、柱盖、升降柱、旋转基台、电动横杆、制冷装置、样品夹具、侧柱、底座、空心柱等,通过升降柱在水平面内的转动以及旋转基台和其上的样品夹具同步转动,实现了均匀镀膜;通过升降柱在竖直方向上的上下运动及电动横杆的转动,实现了样品夹具的翻转;通过制冷装置的散热和降温作用,保证超薄薄膜始终在低温下进行金属化,避免出现凹陷、热击穿和镀膜不均等现象。整套装置具有结构简单、使用及维护方便、金属膜层质量好、自动化程度高等一系列优点,在真空离子溅射镀膜领域有较好的应用前景。

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