公开(公告)号：CN107109628B

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201580057831.5

申请日：2015-08-21

Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 宫寺哲彦 ,  杉田武 ,  村上拓郎 ,  近松真之 ,  松原浩司

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/12

Abstract: 本发明的课题在于，解决因有机材料的气化而使得其它蒸镀用原料被污染、或者成膜速度不能控制而发生失控等现有技术中的问题，提供一种能够稳定地调节、控制成膜速度及蒸发速度的有机材料的激光蒸镀方法、激光蒸镀装置，在将至少一种有机材料进行激光蒸镀的方法中，其特征在于，对使该有机材料蒸发的激光的占空比进行调节。另外，其特征在于，基于上述有机物的蒸发速度、蒸镀用真空腔内的蒸气压对上述占空比进行调节。

公开(公告)号：CN107109628A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201580057831.5

申请日：2015-08-21

Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 宫寺哲彦 ,  杉田武 ,  村上拓郎 ,  近松真之 ,  松原浩司

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/12

Abstract: 本发明的课题在于，解决因有机材料的气化而使得其它蒸镀用原料被污染、或者成膜速度不能控制而发生失控等现有技术中的问题，提供一种能够稳定地调节、控制成膜速度及蒸发速度的有机材料的激光蒸镀方法、激光蒸镀装置，在将至少一种有机材料进行激光蒸镀的方法中，其特征在于，对使该有机材料蒸发的激光的占空比进行调节。另外，其特征在于，基于上述有机物的蒸发速度、蒸镀用真空腔内的蒸气压对上述占空比进行调节。