公开(公告)号：CN102224571A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN200980146826.6

申请日：2009-11-19

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  井上泰宣 ,  牛岛满 ,  岩渊胜彦

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/452 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/316

CPC classification number: C23C16/45523 ,  C23C16/407 ,  C23C16/44 ,  H01L21/02181 ,  H01L21/02233 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31645 ,  H01L21/31662 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明公开的基板处理方法包括：在容器内布置基板的工序；导入工序，在所述导入工序中，向容纳催化剂的催化剂反应部内以第一流量导入H2气体，与所述H2气体相独立地以第二流量导入O2气体，并且从所述催化剂反应部向所述基板喷出由与所述催化剂接触的所述H2气体以及O2气体生成的H2O气体；以及将向所述催化剂反应部导入的所述O2气体的流量减少到比所述第二流量少的第三流量的O2流量减少工序；其中，按照所述导入工序、所述O2流量减少工序的顺序以预定的重复频率重复所述导入工序和所述O2流量减少工序，由此处理所述基板。

公开(公告)号：CN101932751A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200880125817.4

申请日：2008-11-21

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  井上泰宣 ,  三浦仁嗣

IPC: C23C16/452 ,  C01G9/03 ,  C23C16/455 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/303 ,  C01G9/02 ,  C01G9/03 ,  C01G15/00 ,  C01P2002/72 ,  C01P2006/40 ,  C23C16/345 ,  C23C16/407 ,  C23C16/452 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/0262

Abstract: 本发明公开的堆积装置具备：催化反应装置，含有：导入第1原料气体的导入部，和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器，和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部；反应性气体分离器，容许从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体的流通；支持基板的基板支持部；和供给第2原料气体的供给部，所述第2原料气体与穿过所述反应性气体分离器的所述反应性气体反应，使膜堆积于所述基板。

公开(公告)号：CN102224570A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN200980146808.8

申请日：2009-11-19

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  井上泰宣 ,  牛岛满 ,  岩渊胜彦

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/452 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/316

CPC classification number: C23C16/44 ,  C23C16/407 ,  C23C16/45523 ,  H01L21/02181 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31645 ,  H01L21/31662 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明公开的基板处理装置包括：反应室；基板支承部，所述基板支承部设置在所述反应室内，并被构成为支承基板；以及多个催化剂反应部，其中每一个催化剂反应部面对所述基板支承部而布置在所述反应室内，并被构成为通过使从气体导入部导入的原料气体与催化剂接触来生成反应气体，并将生成的所述反应气体向反应室的内部空间喷出，被支承在所述基板支承部上的所述基板通过喷出的所述反应气体被处理。

公开(公告)号：CN101755074A

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200880025378.X

申请日：2008-07-18

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  田村和之 ,  井上泰宣

IPC: C23C16/34 ,  C23C16/44 ,  C30B29/38 ,  H01L21/215

CPC classification number: C30B29/403 ,  C23C16/303 ,  C23C16/452 ,  C30B25/02 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/0262

Abstract: 本发明提供一种氮化物膜的沉积方法，其向催化反应装置内导入从肼及氮氧化物中选择的1种以上供氮气体，使该供氮气体与催化剂接触而生成活性气体，使该活性气体从催化反应装置喷出，使活性气体和化合物气体发生反应而在基板上沉积氮化物膜。

公开(公告)号：CN102912320A

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN201210313844.2

申请日：2008-11-21

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  井上泰宣 ,  三浦仁嗣

IPC: C23C16/452 ,  C23C16/30 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  C01G9/03

CPC classification number: C23C16/303 ,  C01G9/02 ,  C01G9/03 ,  C01G15/00 ,  C01P2002/72 ,  C01P2006/40 ,  C23C16/345 ,  C23C16/407 ,  C23C16/452 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/0262

Abstract: 本发明公开的堆积装置具备：催化反应装置，含有：导入第1原料气体的导入部，和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器，和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部；反应性气体分离器，容许从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体的流通；支持基板的基板支持部；和供给第2原料气体的供给部，所述第2原料气体与穿过所述反应性气体分离器的所述反应性气体反应，使膜堆积于所述基板。

公开(公告)号：CN101680088B

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN200880015431.8

申请日：2008-05-16

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  筑地正俊 ,  井上泰宣 ,  高田雅介

IPC: C23C16/40 ,  C01G9/02 ,  H01L21/365

CPC classification number: C23C16/40 ,  C01G9/03 ,  C01P2002/72 ,  C23C16/407 ,  C23C16/448 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/0262

Abstract: 本发明通过利用伴随催化反应的化学能，在无需电能的情况下，以低成本在基板上高效地形成以氧化锌为代表的金属氧化物薄膜的技术。向催化反应装置内导入H2气体和O2气体、或者导入H2O2气体，并使其与催化剂接触而得到H2O气体，使所述H2O气体从催化反应装置喷出而与金属化合物气体反应，从而使金属氧化物薄膜沉积在基板上，由此制造金属氧化物薄膜。

公开(公告)号：CN101680088A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880015431.8

申请日：2008-05-16

Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 安井宽治 ,  西山洋 ,  筑地正俊 ,  井上泰宣 ,  高田雅介

IPC: C23C16/40 ,  C01G9/02 ,  H01L21/365

CPC classification number: C23C16/40 ,  C01G9/03 ,  C01P2002/72 ,  C23C16/407 ,  C23C16/448 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/0262

Abstract: 本发明通过利用伴随催化反应的化学能，在无需电能的情况下，以低成本在基板上高效地形成以氧化锌为代表的金属氧化物薄膜的技术。向催化反应装置内导入H 2 气体和O 2 气体、或者导入H 2 O 2 气体，并使其与催化剂接触而得到H 2 O气体，使所述H 2 O气体从催化反应装置喷出而与金属化合物气体反应，从而使金属氧化物薄膜沉积在基板上，由此制造金属氧化物薄膜。