穿隧磁阻元件的制造方法

    公开(公告)号:CN103250263B

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201180058075.X

    申请日:2011-12-20

    CPC classification number: H01L43/12 H01L43/08 H01L43/10

    Abstract: 本发明提供了一种无需MgO成膜工序的垂直磁化型磁性元件的制造方法。本发明的磁阻元件(1)的制造方法包括在基体(10)上层压第一层(30),该第一层(30)由包含Co、Ni和Fe中的至少一种的材料构成。接着,在第一层(30)上层压由Mg构成的第二层(40)。接着,对包括所述第一层(30)和所述第二层(40)的层压体实施氧化处理,使第二层(40)的Mg氧化为MgO。接着,对所述层压体实施加热处理,使第二层(40)结晶,并使第一层(30)垂直磁化。根据该制造方法,可在不产生由MgO成膜所引起的问题的情况下,制造出CoFeB-MgO系材料的垂直磁化型磁性元件。

    磁阻效应元件、磁存储器和人工智能系统

    公开(公告)号:CN116998021A

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN202280022035.8

    申请日:2022-03-16

    Abstract: 本发明提供一种磁阻效应元件、磁存储器和人工智能系统,通过流过重金属层的写入电流,能够实现低电阻,高效地使记录层的磁化方向反转,而不会降低反转效率。磁阻效应元件(10)包括:重金属层(11),其通过层叠Ir层(12)和Pt层(13)而成;记录层(16),其以与重金属层(11)相向的方式设置,包含具有可反转的磁化的第1铁磁层;参考层(18),其包含磁化方向固定的第2铁磁层;以及阻挡层(17),其被第1铁磁层和第2铁磁层夹着,采用绝缘体形成,通过流过重金属层(11)的写入电流,使第1铁磁层的磁化方向反转。

    磁性层叠膜和磁阻效应元件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117480619A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202280042206.3

    申请日:2022-06-15

    Abstract: 本发明提供一种能够使写入电流流过并实现高密度化和/或高速存储器的层叠膜、使用该层叠膜的磁阻效应元件。磁性层叠膜(10)包括:第1铁磁层(12);设置在第1铁磁层(12)上的层间耦合非磁性层(10a);以及设置在层间耦合非磁性层(10a)上的第2铁磁层(16),层间耦合非磁性层(10a)采用包括第1非磁性层(13)、层间耦合层(14)和第2非磁性层(15)的三层构造形成。层间耦合层(14)选自至少含有Ir、Ru、Rh的金属或合金。第1非磁性层(13)、第2非磁性层(15)选自含有Pt的金属或合金。

    穿隧磁阻元件的制造方法

    公开(公告)号:CN103250263A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201180058075.X

    申请日:2011-12-20

    CPC classification number: H01L43/12 H01L43/08 H01L43/10

    Abstract: 本发明提供了一种无需MgO成膜工序的垂直磁化型磁性元件的制造方法。本发明的磁阻元件(1)的制造方法包括在基体(10)上层压第一层(30),该第一层(30)由包含Co、Ni和Fe中的至少一种的材料构成。接着,在第一层(30)上层压由Mg构成的第二层(40)。接着,对包括所述第一层(30)和所述第二层(40)的层压体实施氧化处理,使第二层(40)的Mg氧化为MgO。接着,对所述层压体实施加热处理,使第二层(40)结晶,并使第一层(30)垂直磁化。根据该制造方法,可在不产生由MgO成膜所引起的问题的情况下,制造出CoFeB-MgO系材料的垂直磁化型磁性元件。

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