公开(公告)号：CN114341401B

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202080062263.9

申请日：2020-09-01

Applicant: 四国化成工业株式会社

Inventor： 山地范明 ,  古贺达也 ,  平尾浩彦

IPC: C23C22/52 ,  H05K3/38 ,  C07F7/18

Abstract: 本发明提供一种成膜性更加足够高的金属的表面处理液。本发明涉及一种金属的表面处理液，其包含唑硅烷偶联剂，进一步包含(A)1分子中具有1个～3个酸性基团的有机酸离子、(B)无机酸离子、(C)碱金属离子和/或铵离子以及(D)铜离子。

公开(公告)号：CN118414453A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202280083127.7

申请日：2022-12-22

Applicant: 四国化成工业株式会社

Inventor： 山地范明 ,  谷冈美耶 ,  古贺达也 ,  饭田宗作 ,  永森达也 ,  胜村真人

IPC: C23C26/00 ,  B32B15/04 ,  B32B15/08 ,  C09D5/00 ,  C09D7/61 ,  C09D7/63 ,  C09D201/00 ,  H05K3/38

Abstract: 本发明提供金属与树脂的粘接性更充分优异的有机被膜。本发明涉及一种有机被膜(2)，配置于金属(1)表面上，其中，上述有机被膜(2)包含硅烷偶联剂，上述有机被膜(2)具有向与上述金属(1)相反侧突出的凸部(20)。

公开(公告)号：CN118922427A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202380030621.1

申请日：2023-03-24

Applicant: 四国化成工业株式会社

Inventor： 高作康司 ,  山地范明 ,  古贺达也 ,  村井孝行 ,  谷冈美耶 ,  胜村真人

IPC: C07F7/18 ,  C07D249/14 ,  C09J5/02 ,  C09J201/00 ,  C23C26/00 ,  C23F11/00

Abstract: 本发明的课题在于提供一种新型的三唑化合物及其合成方法以及偶联剂。本发明的三唑化合物由化学式(I)表示。化学式(I)中的各取代基的定义与说明书中的定义相同。#imgabs0#

公开(公告)号：CN114341401A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080062263.9

申请日：2020-09-01

Applicant: 四国化成工业株式会社

Inventor： 山地范明 ,  古贺达也 ,  平尾浩彦

IPC: C23C22/52 ,  H05K3/38 ,  C07F7/18

Abstract: 本发明提供一种成膜性更加足够高的金属的表面处理液。本发明涉及一种金属的表面处理液，其包含唑硅烷偶联剂，进一步包含(A)1分子中具有1个～3个酸性基团的有机酸离子、(B)无机酸离子、(C)碱金属离子和/或铵离子以及(D)铜离子。

公开(公告)号：CN118475721A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202280085901.8

申请日：2022-12-22

Applicant: 四国化成工业株式会社

Inventor： 山地范明 ,  谷冈美耶 ,  古贺达也 ,  饭田宗作 ,  永森达也 ,  胜村真人

IPC: C23C26/00 ,  B32B15/04 ,  B32B15/08 ,  C09D5/00 ,  C09D7/61 ,  C09D7/63 ,  C09D201/00 ,  H05K3/38

Abstract: 本发明提供一种表面处理液，能够形成金属与树脂的粘接性更充分优异且耐化学药品性也优异的有机被膜，所述表面处理液的保存稳定性优异。本发明涉及一种金属的表面处理液，用于在金属表面上形成有机被膜，该表面处理液包含硅烷偶联剂和酸，且具有1.9以下的pH。