一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构

    公开(公告)号:CN105840315B

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:CN201610147198.5

    申请日:2016-03-15

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构,包括冷气导流段、漩涡发生段、圆柱气膜孔,冷气导流段和漩涡发生段相连,圆柱气膜孔安装在漩涡发生段上,冷气导流段为长方体结构,漩涡发生体为一侧具有倒圆角的长方体结构,圆柱气膜孔为圆柱体结构;漩涡发生段的倒圆角半径为R,圆柱气膜孔的直径为D,冷气导流段和漩涡发生段的高度之和为L2,冷气导流段截面的长为L4,冷气导流段截面的宽为W2,圆柱气膜孔与漩涡发生段相接触处到漩涡发生段三个边的垂直距离均为W1,W2/L4的值在1~4之间,L2的值在2~5倍D之间,R的值在0.5~1.0倍D之间,W1的值在0.1~0.5倍D之间。本发明既能保证冷却效果又能克服加工制造和结构强度困难。

    一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构

    公开(公告)号:CN105840315A

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201610147198.5

    申请日:2016-03-15

    CPC classification number: F02C7/12

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构,包括冷气导流段、漩涡发生段、圆柱气膜孔,冷气导流段和漩涡发生段相连,圆柱气膜孔安装在漩涡发生段上,冷气导流段为长方体结构,漩涡发生体为一侧具有倒圆角的长方体结构,圆柱气膜孔为圆柱体结构;漩涡发生段的倒圆角半径为R,圆柱气膜孔的直径为D,冷气导流段和漩涡发生段的高度之和为L2,冷气导流段截面的长为L4,冷气导流段截面的宽为W2,圆柱气膜孔与漩涡发生段相接触处到漩涡发生段三个边的垂直距离均为W1,W2/L4的值在1~4之间,L2的值在2~5倍D之间,R的值在0.5~1.0倍D之间,W1的值在0.1~0.5倍D之间。本发明既能保证冷却效果又能克服加工制造和结构强度困难。

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