一种共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107167085B

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201710277954.0

    申请日:2017-04-25

    Abstract: 本发明提供的是一种共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法。包括光源输出模块、膜厚测量探头模块、干涉与解调模块以及采集与控制模块等四部分。本发明的测量探头能同时实现对传输光线的透射和反射,无待测薄膜时可实现两探头间绝对距离H的测量;待测薄膜安置在两探头中间,实现两探头与待测薄膜前后表面绝对距离H1和H2的测量;待测薄膜厚度d可由d=H‑(H1+H2)确定。本发明实现不需标定样品即可对透明与不透明薄膜的厚度进行测量,干涉光束共光路克服了测量过程中由于测量系统内部机械不稳定和外部环境变化所带来的影响,具有自校准、测量结果可溯源、稳定性高等优点。

    偏振复用的共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107339943B

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201710537207.6

    申请日:2017-07-04

    Abstract: 本发明提供的是一种偏振复用的共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法。包含光源输出模块、膜厚测量探头模块、解调干涉仪模块、偏振分束模块以及采集与控制模块。本发明采用偏振复用技术,两探头使用正交态偏振光。测量探头能实现传输光线的透射和反射,无待测薄膜时可实现两探头绝对距离H的测量;待测薄膜安置两探头间,实现两探头与待测薄膜前后表面的绝对距离H1和H2的测量;待测薄膜厚度d可由d=H‑(H1+H2)确定。本发明实现不需要标定物即可对待测薄膜厚度进行测量,共光路的设计克服了测量过程中由于系统内部机械不稳定和外部环境变化带来的影响,具有自校准、特征白光干涉峰识别简单、动态范围大、测量结果可溯源等优点。

    偏振复用的共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107339943A

    公开(公告)日:2017-11-10

    申请号:CN201710537207.6

    申请日:2017-07-04

    Abstract: 本发明提供的是一种偏振复用的共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法。包含光源输出模块、膜厚测量探头模块、解调干涉仪模块、偏振分束模块以及采集与控制模块。本发明采用偏振复用技术,两探头使用正交态偏振光。测量探头能实现传输光线的透射和反射,无待测薄膜时可实现两探头绝对距离H的测量;待测薄膜安置两探头间,实现两探头与待测薄膜前后表面的绝对距离H1和H2的测量;待测薄膜厚度d可由d=H-(H1+H2)确定。本发明实现不需要标定物即可对待测薄膜厚度进行测量,共光路的设计克服了测量过程中由于系统内部机械不稳定和外部环境变化带来的影响,具有自校准、特征白光干涉峰识别简单、动态范围大、测量结果可溯源等优点。

    一种共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107167085A

    公开(公告)日:2017-09-15

    申请号:CN201710277954.0

    申请日:2017-04-25

    Abstract: 本发明提供的是一种共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法。包括光源输出模块、膜厚测量探头模块、干涉与解调模块以及采集与控制模块等四部分。本发明的测量探头能同时实现对传输光线的透射和反射,无待测薄膜时可实现两探头间绝对距离H的测量;待测薄膜安置在两探头中间,实现两探头与待测薄膜前后表面绝对距离H1和H2的测量;待测薄膜厚度d可由d=H‑(H1+H2)确定。本发明实现不需标定样品即可对透明与不透明薄膜的厚度进行测量,干涉光束共光路克服了测量过程中由于测量系统内部机械不稳定和外部环境变化所带来的影响,具有自校准、测量结果可溯源、稳定性高等优点。

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