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公开(公告)号:CN118878219A
公开(公告)日:2024-11-01
申请号:CN202410918818.5
申请日:2024-07-10
Applicant: 哈尔滨工程大学
IPC: C03C17/23
Abstract: 本发明适用于等离激元纳米光子学技术领域,提供了具有多样化纳米结构对称性的银点阵列的制备方法,所述方法包括:对铝片进行预处理;在预处理后的铝片上预制图案并进行阳极氧化;通过三离子束切割机对多孔阳极氧化铝薄膜切削;制备具有不同纳米周期结构对称性的阳极氧化铝;制备具有不同对称性的金属点阵列。本发明利用了物理切削的方式实现了平整的减薄作用,通过化学腐蚀方式实现具有不同对称性的多空阳极氧化铝的制备,并以此为模板,通过磁控溅射以及物理手段剥离阳极氧化铝的方式实现了对于具有不同对称性的银点阵列的制备。本发明可以制备厘米级别的样品,可以最大程度的节约成本,并在较低温环境下进行,保证了实验操作者的人身安全。
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公开(公告)号:CN117970745B
公开(公告)日:2024-09-24
申请号:CN202410079289.4
申请日:2024-01-19
Applicant: 哈尔滨工程大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明涉及一种对遗留结构进行复形产生新的纳米结构的方法,属于纳米结构压印技术领域。解决冷压印本身复杂性受限和模板制备复杂的问题。包括以下步骤:对材料进行压印,得到压制好的材料;对压制好的材料进行阳极氧化;去掉压制好的材料上的氧化层,得到残余的微纳结构;对微纳结构进行覆膜,得到压印模板;使用压印模板对另一材料进行压印,得到另一压制好的材料;对另一压制好的材料进行阳极氧化,得到第二氧化层。本发明极大的降低了模板制作所需的难度和成本;可以丰富其纳米结构的单元晶格多样性并降低制作成本。
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公开(公告)号:CN117970745A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202410079289.4
申请日:2024-01-19
Applicant: 哈尔滨工程大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明涉及一种对遗留结构进行复形产生新的纳米结构的方法,属于纳米结构压印技术领域。解决冷压印本身复杂性受限和模板制备复杂的问题。包括以下步骤:对材料进行压印,得到压制好的材料;对压制好的材料进行阳极氧化;去掉压制好的材料上的氧化层,得到残余的微纳结构;对微纳结构进行覆膜,得到压印模板;使用压印模板对另一材料进行压印,得到另一压制好的材料;对另一压制好的材料进行阳极氧化,得到第二氧化层。本发明极大的降低了模板制作所需的难度和成本;可以丰富其纳米结构的单元晶格多样性并降低制作成本。
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