阵列调零高精度大工作距自准直装置与方法

    公开(公告)号:CN106225728B

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201610638878.7

    申请日:2016-08-07

    Abstract: 本发明属于精密测量技术领域和光学工程领域,具体涉及阵列调零高精度大工作距自准直装置与方法;该装置由光源、准直镜、反射镜、以及反馈成像系统组成;该方法通过调整反射镜,使反射光束回到反馈成像系统像面中心,再利用反射镜上的角度偏转测量装置来得到被测物表面的角度变化;由于本发明在传统自准直角度测量系统上增加了反射镜,因此能够避免被测物反射光偏离测量系统而导致无法测量的问题,进而具有在相同工作距离下增加自准直工作范围,或在相同自准直工作范围下增加工作距离的技术优势;此外,准直镜、反馈成像系统、反射镜等的具体设计,使本发明还具有结构简单、制作成本低;尤其低采样频率下具有高测量精度;以及快速测量的技术优势。

    阵列调零激光大工作距自准直装置与方法

    公开(公告)号:CN106225727A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201610638877.2

    申请日:2016-08-07

    CPC classification number: G01B11/26 G01C15/002

    Abstract: 本发明属于精密测量技术领域和光学工程领域,具体涉及阵列调零激光大工作距自准直装置与方法;该装置由光源、准直镜、反射镜、以及反馈成像系统组成;该方法通过调整反射镜,使反射光束回到反馈成像系统像面中心,再利用反射镜上的角度偏转测量装置来得到被测物表面的角度变化;由于本发明在传统自准直角度测量系统上增加了反射镜,因此能够避免被测物反射光偏离测量系统而导致无法测量的问题,进而具有在相同工作距离下增加自准直工作范围,或在相同自准直工作范围下增加工作距离的技术优势;此外,准直镜、反馈成像系统、反射镜等的具体设计,使本发明还具有结构简单、制作成本低;在不稳定测量环境下同样能够测量;以及快速测量的技术优势。

    阵列调零高精度大工作距自准直装置与方法

    公开(公告)号:CN106225728A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201610638878.7

    申请日:2016-08-07

    CPC classification number: G01B11/26 G01C15/002 G02B27/30

    Abstract: 本发明属于精密测量技术领域和光学工程领域,具体涉及阵列调零高精度大工作距自准直装置与方法;该装置由光源、准直镜、反射镜、以及反馈成像系统组成;该方法通过调整反射镜,使反射光束回到反馈成像系统像面中心,再利用反射镜上的角度偏转测量装置来得到被测物表面的角度变化;由于本发明在传统自准直角度测量系统上增加了反射镜,因此能够避免被测物反射光偏离测量系统而导致无法测量的问题,进而具有在相同工作距离下增加自准直工作范围,或在相同自准直工作范围下增加工作距离的技术优势;此外,准直镜、反馈成像系统、反射镜等的具体设计,使本发明还具有结构简单、制作成本低;尤其低采样频率下具有高测量精度;以及快速测量的技术优势。

    阵列调零激光大工作距自准直装置与方法

    公开(公告)号:CN106225727B

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201610638877.2

    申请日:2016-08-07

    Abstract: 本发明属于精密测量技术领域和光学工程领域,具体涉及阵列调零激光大工作距自准直装置与方法;该装置由光源、准直镜、反射镜、以及反馈成像系统组成;该方法通过调整反射镜,使反射光束回到反馈成像系统像面中心,再利用反射镜上的角度偏转测量装置来得到被测物表面的角度变化;由于本发明在传统自准直角度测量系统上增加了反射镜,因此能够避免被测物反射光偏离测量系统而导致无法测量的问题,进而具有在相同工作距离下增加自准直工作范围,或在相同自准直工作范围下增加工作距离的技术优势;此外,准直镜、反馈成像系统、反射镜等的具体设计,使本发明还具有结构简单、制作成本低;在不稳定测量环境下同样能够测量;以及快速测量的技术优势。

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