电化学法玻璃片硅片穿孔设备

    公开(公告)号:CN1191919C

    公开(公告)日:2005-03-09

    申请号:CN03132459.2

    申请日:2003-06-25

    Abstract: 本发明提供的是一种电化学法玻璃片硅片穿孔设备。它包括电解槽,在电解槽中装有碱性溶液。电源负极接石墨电极或者镍电极,穿孔探针接电源正极。玻璃片或硅片水平置于石墨电极或镍电极上。穿孔探针材料为金属钨,穿孔探针上串联有限流电阻。电源提供脉动直流电压,电压范围为40-100V。本发明的优点在于:1、穿孔速度快;2、结构简单,易于操作与携带;3、对玻璃片和硅片表面无破坏性损伤。

    电化学法玻璃片硅片穿孔设备

    公开(公告)号:CN1486822A

    公开(公告)日:2004-04-07

    申请号:CN03132459.2

    申请日:2003-06-25

    Abstract: 本发明提供的是一种电化学法玻璃片硅片穿孔设备。它包括电解槽,在电解槽中装有碱性溶液。电源负极接石墨电极或者镍电极,穿孔探针接电源正极。玻璃片或硅片水平置于石墨电极或镍电极上。穿孔探针材料为金属钨,穿孔探针上串联有限流电阻。电源提供脉动直流电压,电压范围为40-100V。本发明的优点在于:1、穿孔速度快;2、结构简单,易于操作与携带;3、对玻璃片和硅片表面无破坏性损伤。

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