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公开(公告)号：CN102775625B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201210264555.8
申请日：2012-07-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 光限幅C60/POSS复合膜的制备方法，它涉及一种复合膜的制备方法。本发明为了解决C60作为光限幅材料溶解性较低，降低光学非线性的技术问题。本发明方法如下：一、制备POSS溶胶；二、中间体的合成；三、中间体与基体复合。本发明利用含有氨基的基团，将C60与POSS连接在一起，实现两者性能的叠加。合成后的产物，成膜性好，透明度高，可以用作在光学器件上覆膜。
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公开(公告)号：CN102675667A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210161363.4
申请日：2012-05-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 自修复型POSS/微胶囊复合膜的制备方法，它涉及一种复合膜的制备方法。本发明解决了微胶囊微裂纹产生的技术问题。本方法如下：一、POSS溶胶的制备；二、微胶囊的制备；三、将微胶囊加入到聚酰胺酸中，得到混合液，然后用在玻璃片上进行旋转涂膜，将涂膜的玻璃片转入烘箱中在80℃恒温30分钟、120℃恒温2小时、130℃恒温30分钟，即得自修复型POSS/微胶囊复合膜。本发明的自修复型POSS/微胶囊复合膜一方面可以另有无机纳米材料POSS具有很高的刚性，而且在高温条件下能迅速分解成为SiO2，不仅可以胶粘微裂痕，而且可以提高薄膜的机械性能。
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公开(公告)号：CN1303149C
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN200510009822.7
申请日：2005-03-15
Abstract: 本发明提供了一种纳米氧化铝改性聚偏氟乙烯分离膜及其制备方法。改性膜不仅保留了聚偏氟乙烯分离膜原来优良的特性，还很好的改善了聚偏氟乙烯的表面能，增强了膜的亲水性，提高了膜的抗污染性；使得膜的出水通量得到大幅度的提高；在一定的程度上还抑制膜的大孔的形成，增加了膜的空间联系，提高了膜的强度，延长了膜的寿命。
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公开(公告)号：CN102745910B
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201210264565.1
申请日：2012-07-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C03C25/42
Abstract: 石英纤维表面Al2O3-POSS杂化涂层的制备方法，它涉及一种杂化涂层的制备方法。本发明为了解决现有透波材料容易脆性断裂的技术问题。本方法如下：制备Al2O3溶胶；制POSS溶胶；制备复合溶胶；将经过预处理的石英纤维经过硫酸预处理的石英纤维放到复合溶胶中浸渍，然后干燥，再热处理，即得；本发明的杂化涂层与石英纤维粘附性好，在纤维表面形成了均匀的保护层，有效的隔离了石英纤维与磷酸盐基体的羟基缩合反应，降低了高温条件下磷酸盐基体对石英纤维的腐蚀作用，提高了石英纤维增强磷酸盐基复合材料的力学性能。
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公开(公告)号：CN102775625A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201210264555.8
申请日：2012-07-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 光限幅C60/POSS复合膜的制备方法，它涉及一种复合膜的制备方法。本发明为了解决C60作为光限幅材料溶解性较低，降低光学非线性的技术问题。本发明方法如下：一、制备POSS溶胶；二、中间体的合成；三、中间体与基体复合。本发明利用含有氨基的基团，将C60与POSS连接在一起，实现两者性能的叠加。合成后的产物，成膜性好，透明度高，可以用作在光学器件上覆膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100455343C
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200610010287.1
申请日：2006-07-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B01D71/56
Abstract: 二氧化钛颗粒改性芳香聚酰胺分离膜及其制备方法，涉及一种高分子有机膜及其制备方法。为了解决膜污染，本发明的分离膜由如下成分组成：10～25wt.%芳香聚酰胺、65～85wt.%有机溶剂、0.1～4wt.%二氧化钛颗粒、2～8wt.%成孔剂，其制备方法为：将芳香聚酰胺溶于有机溶剂中，在搅拌中加入二氧化钛颗粒、成孔剂超生震荡；放入干燥箱中熟化、脱泡；浇铸成膜；浇铸后的膜在干燥箱中蒸发，然后放入凝固液中浸泡，接着用蒸馏水漂洗干净后用甲酸溶液处理；最后预压成型。本发明的改性膜不仅保留了芳香聚酰胺分离膜原来优良的特性，还很好的改善了芳香聚酰胺分离膜的表面能，增强了膜的亲水性，提高了膜的抗污染性。
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公开(公告)号：CN102675667B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201210161363.4
申请日：2012-05-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 自修复型POSS/微胶囊复合膜的制备方法，它涉及一种复合膜的制备方法。本发明解决了微胶囊微裂纹产生的技术问题。本方法如下：一、POSS溶胶的制备；二、微胶囊的制备；三、将微胶囊加入到聚酰胺酸中，得到混合液，然后用在玻璃片上进行旋转涂膜，将涂膜的玻璃片转入烘箱中在80℃恒温30分钟、120℃恒温2小时、130℃恒温30分钟，即得自修复型POSS/微胶囊复合膜。本发明的自修复型POSS/微胶囊复合膜一方面可以另有无机纳米材料POSS具有很高的刚性，而且在高温条件下能迅速分解成为SiO2，不仅可以胶粘微裂痕，而且可以提高薄膜的机械性能。
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公开(公告)号：CN102745910A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210264565.1
申请日：2012-07-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C03C25/42
Abstract: 石英纤维表面Al2O3-POSS杂化涂层的制备方法，它涉及一种杂化涂层的制备方法。本发明为了解决现有透波材料容易脆性断裂的技术问题。本方法如下：制备Al2O3溶胶；制POSS溶胶；制备复合溶胶；将经过预处理的石英纤维经过硫酸预处理的石英纤维放到复合溶胶中浸渍，然后干燥，再热处理，即得；本发明的杂化涂层与石英纤维粘附性好，在纤维表面形成了均匀的保护层，有效的隔离了石英纤维与磷酸盐基体的羟基缩合反应，降低了高温条件下磷酸盐基体对石英纤维的腐蚀作用，提高了石英纤维增强磷酸盐基复合材料的力学性能。
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公开(公告)号：CN101913869B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201010251753.1
申请日：2010-08-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C04B35/50 , C04B35/622 , C04B35/64
Abstract: 一种可低温烧结的氧化物热电材料及其制备方法，涉及氧化物热电材料及其制备方法。得到烧结温度低、热电性能好的热电材料，实现设备投资小、制备周期短、产量大的热电材料的制备方法。热电材料为钴酸镧基热电材料，由La2O3、Co3O4、B2O3和CuO制成。制备方法为：将La2O3和Co3O4混合，加去离子水球磨，再干燥、预烧得预烧粉体；预烧粉体与B2O3、CuO混合，加无水乙醇球磨，再依次干燥、造粒、成型、烧结即可。热电材料功率因子为1×10-4~1.8×10-4W·m-1·K-2，ZT值为0.038~0.073。烧结温度低，比现有工艺降低100~300℃，烧结时间短，设备投资小，有利于工业化生产。
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公开(公告)号：CN101913869A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010251753.1
申请日：2010-08-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C04B35/50 , C04B35/622 , C04B35/64
Abstract: 一种可低温烧结的氧化物热电材料及其制备方法，涉及氧化物热电材料及其制备方法。得到烧结温度低、热电性能好的热电材料，实现设备投资小、制备周期短、产量大的热电材料的制备方法。热电材料为钴酸镧基热电材料，由La2O3、Co3O4、B2O3和CuO制成。制备方法为：将La2O3和Co3O4混合，加去离子水球磨，再干燥、预烧得预烧粉体；预烧粉体与B2O3、CuO混合，加无水乙醇球磨，再依次干燥、造粒、成型、烧结即可。热电材料功率因子为1×10-4~1.8×10-4W·m-1·K-2，ZT值为0.038~0.073。烧结温度低，比现有工艺降低100~300℃，烧结时间短，设备投资小，有利于工业化生产。
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