公开(公告)号：CN107068598A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201710309002.2

申请日：2017-05-04

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 王晨曦 ,  许继开 ,  刘艳南 ,  田艳红 ,  冯智健 ,  周诗承 ,  李思 ,  马竟轩

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02068 ,  H01L21/67115

Abstract: 一种利用真空紫外光清洗及活化材料表面的装置，属于半导体制造加工领域。密封箱体的右侧壁上安装有气阀一、气阀二及气阀三，密封箱体的前侧壁上位于左侧设有样品取送窗口一，位于右侧设有样品取送窗口二，样品取送窗口一处密封安装有样品取送窗门一，样品取送窗口二处密封安装有样品取送窗门二，真空紫外灯水平设置并通过灯架安装在密闭箱体内顶部，真空紫外灯下方设置有工作台，气阀一经纯净气体流量控制器与储气瓶的出口连通，气阀二经水蒸气流量控制器与水蒸气发生装置的烧瓶连通，气阀三与密闭加热器的进气口连通，密闭加热器的出气口与真空泵连通。本发明对材料表面清洗及活化的操作流程简单易行，效果显著，并且可用于批量处理。