公开(公告)号：CN115781421B

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202211298926.4

申请日：2022-10-24

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 王洪祥 ,  刘世伟 ,  付云飞

IPC: B24B1/00 ,  B24B13/00

Abstract: 本发明涉及光学元件的抛光领域，尤其是涉及一种复杂曲面光学元件磁流变抛光的加工方法及系统。计算初始面形误差；设定分频段参数；设定各层参数；获得对应各频段的抛光斑形貌；对第一频段初始面形误差进行延拓处理，获得第一频段延拓后面形误差；进行磁流变抛光，最终获得延拓后面形误差；计算第二频段的第一层延拓后面形误差；计算各个频段中各层的延拓后面形误差，直至实现最终频段的加工。用以解决现有加工方法无法实现复杂曲面光学元件高精度加工的难题。

公开(公告)号：CN115781421A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202211298926.4

申请日：2022-10-24

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 王洪祥 ,  刘世伟 ,  付云飞

IPC: B24B1/00 ,  B24B13/00

Abstract: 本发明涉及光学元件的抛光领域，尤其是涉及一种复杂曲面光学元件磁流变抛光的加工方法及系统。计算初始面形误差；设定分频段参数；设定各层参数；获得对应各频段的抛光斑形貌；对第一频段初始面形误差进行延拓处理，获得第一频段延拓后面形误差；进行磁流变抛光，最终获得延拓后面形误差；计算第二频段的第一层延拓后面形误差；计算各个频段中各层的延拓后面形误差，直至实现最终频段的加工。用以解决现有加工方法无法实现复杂曲面光学元件高精度加工的难题。