一种金属/介质超宽带吸收薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN108515743B

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN201810466339.9

    申请日:2018-05-09

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种金属/介质超宽带吸收薄膜及其制备方法,所述金属/介质超宽带吸收薄膜包括由下而上依次设置的基板、第一薄膜和第二薄膜,所述第一薄膜(2)为由低折射率介质膜层L和高吸收金属薄层H交替设置构成的金属/介质膜堆,且第一薄膜与基板接触的一侧为低折射率介质膜层L,所述第二薄膜为一单层低折射率介质减反膜AR。与现有技术相比,本发明省略了传统厚层贵金属衬底,增加了薄膜与基板间的附着力和牢固度,选材方法新颖,实现了400nm‑7000nm约7μm的吸收带宽,薄膜平均吸收率大于92%。

    一种用于高能激光内通道的气体热效应控制装置

    公开(公告)号:CN118938421B

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202410983252.4

    申请日:2024-07-22

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明公开了一种高能激光内通道的气体热效应控制装置,涉及激光技术领域,设置于内通道上,激光内通道包括依次垂直连接的进光段、转折段、输出段,包括波前探测装置和气体散热装置,波前探测装置包括设置于进光段一端的波前探测器和设置于输出段一端的信号光发射器,气体散热装置包括均匀气流单元、控温流道、气流通道和监测装置,若干气流通道均匀分布于内通道的侧壁上,控温流道设置于内通道的侧壁内,控温流道与气流通道间隔分布,均匀气流单元覆盖在气流通道上。本发明采用上述结构的一种用于高能激光内通道的气体热效应控制装置,能够实时探测内通道气体热效应导致的气体热畸变,均匀稳定控制内通道气体的温度,保证光束传输不变性。

    一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置

    公开(公告)号:CN118730494B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202410983251.X

    申请日:2024-07-22

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明公开了一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置,涉及高功率激光系统领域,包括振动宽温原位平台和集成化多功能检测平台,振动宽温原位平台包括振动平台和安装在振动平台上的宽温平台,待测高功率激光系统固定在宽温平台内,集成化多功能检测平台包括调整架和设置于调整架上的集成平台,集成平台的上方设置有光束进入装置、光束探测器、功率能量检测装置、光轴位置检测装置、可见激光调节装置。本发明采用上述结构的一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置,通过振动、温度可调节的模拟真实环境场景的原位安装平台,实现高功率激光系统多性能参数的原位的检测。

    一种氧化铪复合薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN116288154A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310306522.3

    申请日:2023-03-27

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及薄膜光学技术领域,尤其是涉及一种氧化铪复合薄膜及其制备方法。本发明旨在解决离子束辅助沉积工艺制备的氧化铪薄膜因易结晶、表面空洞缺陷密集而导致的粗糙度较大的问题,以及离子束轰击引起的薄膜吸收较大的问题。本发明在传统制备的纯氧化铪薄膜制备中插入薄层的氧化硅薄膜,将厚层氧化铪拆分隔离为数层纳米薄层,一方面可以有效抑制氧化铪薄膜的结晶,减少薄膜表面的孔洞缺陷,从而降低薄膜粗糙度;另一方面,部分含量氧化硅的引入也会降低氧化铪薄膜的吸收。与现有技术相比,本发明可以有效降低离子束辅助沉积工艺制备氧化铪薄膜表面粗糙度和吸收,同时制作成本低,易于推广,在超高精度激光测量领域具有广泛的应用前景。

    兼顾激光波段损伤特性和中波红外高透特性的分色元件及设计方法

    公开(公告)号:CN116184551A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202211612972.7

    申请日:2022-12-15

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及光学薄膜技术领域,尤其是涉及兼顾激光波段损伤特性和中波红外高透特性的分色元件及设计方法。本发明采用能带隙宽、热力学稳定性优良的氧化物材料,确保该分色元件在激光波段有高的激光损伤阈值、光谱效率以及能够适应严酷的工作环境。与现有技术相比,本发明可以兼顾激光波段的损伤特性和各个目标波段的光谱效率,具体可实现的技术指标为:532nm和1064nm激光波段的反射率分别为99.5%、99.7%,3.6~4.7μm中红外探测光范围内的平均透射率达到96%以上;该分色元件在532nm和1064nm激光波段的损伤阈值分别为10.4J/cm2、31.6J/cm2。

    一种消偏振合束镜薄膜及其设计方法

    公开(公告)号:CN109471211B

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN201811639285.8

    申请日:2018-12-29

    Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜,包括基底以及设置在基底上的第一薄膜,所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk‑3H xk‑2L xk‑1H xkL|Air,其中,Sub为薄膜元件基板,Air为出射介质空气,H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层,x1~xk为每层薄膜层的光学厚度系数,k为薄膜层总数。与现有技术相比,本发明具有优化过程简单,膜系规整,便于精确制备,降低了制备复杂性,消偏效果好、光谱特性优良,便于推广使用等优点,在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景,可用于不同波长激光的非相干合束。

    一种多波段激光合束系统及光束控制方法

    公开(公告)号:CN117784436B

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202311676709.9

    申请日:2023-12-08

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种多波段激光合束系统及光束控制方法,包括激光合束模块和合成光束监控模块,激光合束模块包括子束激光器、控制反射镜、光束合成镜和高反镜,子束激光器所发出的子光束照射到控制反射镜上,经过控制反射镜的反射到达光束合成镜合成为合成光束,经过光束合成镜到达高反镜,从高反镜一面反射出合成激光,另一面输出测试光束进入合成光束监控模块。与现有技术相比,本发明具有实现了多光束的合成,适合各种能量或宽波段的激光器;实现了对各光束的绝对位置控制,再通过反馈调整保证了合成精度;保证了激光合成光束的指向稳定性,降低了后续激光发射系统的难度等优点。

    一种多波段激光合束系统及光束控制方法

    公开(公告)号:CN117784436A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311676709.9

    申请日:2023-12-08

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种多波段激光合束系统及光束控制方法,包括激光合束模块和合成光束监控模块,激光合束模块包括子束激光器、控制反射镜、光束合成镜和高反镜,子束激光器所发出的子光束照射到控制反射镜上,经过控制反射镜的反射到达光束合成镜合成为合成光束,经过光束合成镜到达高反镜,从高反镜一面反射出合成激光,另一面输出测试光束进入合成光束监控模块。与现有技术相比,本发明具有实现了多光束的合成,适合各种能量或宽波段的激光器;实现了对各光束的绝对位置控制,再通过反馈调整保证了合成精度;保证了激光合成光束的指向稳定性,降低了后续激光发射系统的难度等优点。

    一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法

    公开(公告)号:CN106862114B

    公开(公告)日:2018-10-26

    申请号:CN201710070731.7

    申请日:2017-02-09

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法,将LBO晶体依次执行下述步骤:采用无水乙醇和乙醚混合液擦拭LBO晶体表面;采用弱碱性溶液对LBO晶体进行超声波清洗,所述弱碱性溶液包括NH4OH和H2O2,体积比为NH4OH:H2O2:H2O=1:8:50;采用无水乙醇对LBO晶体进行漂洗;将LBO晶体放置于装有无水乙醇的密闭容器内,对LBO晶体进行超声加热清洗;取出LBO晶体,再次漂洗;在正压容器环境中利用干燥氮气风刀对LBO晶体进行干燥。与现有技术相比,本发明具有清洗效果好,既可以提升LBO晶体镀膜后的抗激光损伤特性,又可以提升其镀膜后的薄膜附着力及抗裂纹特性等优点。

    一种金属/介质超宽带吸收薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN108515743A

    公开(公告)日:2018-09-11

    申请号:CN201810466339.9

    申请日:2018-05-09

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种金属/介质超宽带吸收薄膜及其制备方法,所述金属/介质超宽带吸收薄膜包括由下而上依次设置的基板、第一薄膜和第二薄膜,所述第一薄膜(2)为由低折射率介质膜层L和高吸收金属薄层H交替设置构成的金属/介质膜堆,且第一薄膜与基板接触的一侧为低折射率介质膜层L,所述第二薄膜为一单层低折射率介质减反膜AR。与现有技术相比,本发明省略了传统厚层贵金属衬底,增加了薄膜与基板间的附着力和牢固度,选材方法新颖,实现了400nm-7000nm约7μm的吸收带宽,薄膜平均吸收率大于92%。

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