一种半导体长膜工艺中静电卡盘及晶片温度的辨识方法

    公开(公告)号:CN103762188B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201410002602.0

    申请日:2014-01-02

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 一种半导体长膜工艺中静电卡盘及晶片温度的辨识方法,(1)滤波处理,(2)差分处理,确定差分数据最大值、最小值、正均值和负均值;(3)确定卡盘/晶片温度缓变段准确位置信息:(a)设定第一峰/谷门限值,比较第一峰/谷门限值和差分数据的大小,以确定M组卡盘/m组晶片温度缓变段初步位置;(b)设定第二峰/谷门限值,比较M组卡盘和m组晶片温度缓变段初步位置中对应差分数据与第二峰/谷门限值的大小,确定卡盘和晶片的温度缓变段准确位置;(4)对卡盘/晶片温度缓变段的准确位置中对应滤波数据求平均值,以得到静电卡盘及晶片温度值。该方法对静电卡盘和晶片温度高精度辨识,可在较为复杂的工作环境下,实现较好的辨识效果。

    一种半导体长膜工艺中静电卡盘及晶片温度的辨识方法

    公开(公告)号:CN103762188A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410002602.0

    申请日:2014-01-02

    Applicant: 同济大学

    CPC classification number: H01L22/12

    Abstract: 一种半导体长膜工艺中静电卡盘及晶片温度的辨识方法,(1)滤波处理,(2)差分处理,确定差分数据最大值、最小值、正均值和负均值;(3)确定卡盘/晶片温度缓变段准确位置信息:(a)设定第一峰/谷门限值,比较第一峰/谷门限值和差分数据的大小,以确定M组卡盘/m组晶片温度缓变段初步位置;(b)设定第二峰/谷门限值,比较M组卡盘和m组晶片温度缓变段初步位置中对应差分数据与第二峰/谷门限值的大小,确定卡盘和晶片的温度缓变段准确位置;(4)对卡盘/晶片温度缓变段的准确位置中对应滤波数据求平均值,以得到静电卡盘及晶片温度值。该方法对静电卡盘和晶片温度高精度辨识,可在较为复杂的工作环境下,实现较好的辨识效果。

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