耐热性保护薄膜,其制造方法及电气电子元件

    公开(公告)号:CN100528550C

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200610114926.9

    申请日:2001-12-21

    Abstract: 提供一种具有优良的耐热性,成形加工性,焊锡焊接性能的材料表面的保护膜和该保护膜的制造方法,以及带有这种保护膜的电气电子元件。在铜合金等材料的表面上形成从材料表面依次为Ni或Ni合金层、Cu层、Sn或Sn含金层构成的保护层。在形成保护层后进行300~900℃,1~300秒的重熔处理,从而形成以下构造的耐热性保护膜,其构造为最外层的层厚X为0.05~2μm的Sn层或Sn合金层,其内层的层厚Y为0.05~2μm的以Cu-Sn为主体的金属间化合物层,最内层的层厚Z为0.01~1μm的Ni或Ni合金层(X,Y,Z满足以下条件:0.2X≤Y≤5X,并且0.05Y≤Z≤3Y)。

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