公开(公告)号：CN1450409A

公开(公告)日：2003-10-22

申请号：CN02106272.2

申请日：2002-04-08

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 林本坚 ,  刘如淦 ,  陈世颖 ,  游信胜 ,  林华泰 ,  严涛南 ,  辜耀进

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种消除微影制程中线末端变短效应的方法，其步骤为：(1)曝光此感光层于第一罩幕下，其中将感光层所欲形成的图案上的每一条线或开口的末端往外延伸一第一延长部分所形成的图案，即为第一罩幕的图案；(2)曝光此感光层于第二罩幕下，其中第二罩幕的图案包含至少一开口，且当第一、第二罩幕重叠时，第一罩幕上的任一个第一延长部分以及此第一延长部分往外延伸的一第二延长部分刚好与第二罩幕的图案上的一个开口重叠，而第二罩幕的图案上的所有开口刚好只将第一罩幕上的所有第一延长部分以及第二延长部分覆盖住。所述第一延长部分以及第二延长部分的长度大于或等于感光层上的欲形成图案上的线或开口的末端因为光学近接效应所缩短的量。

公开(公告)号：CN1223904C

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN02106272.2

申请日：2002-04-08

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 林本坚 ,  刘如淦 ,  陈世颖 ,  游信胜 ,  林华泰 ,  严涛南 ,  辜耀进

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种消除微影制程中线末端变短效应的方法，其步骤为：(1)曝光此感光层于第一罩幕下，其中将感光层所欲形成的图案上的每一条线或开口的末端往外延伸一第一延长部分所形成的图案，即为第一罩幕的图案；(2)曝光此感光层于第二罩幕下，其中第二罩幕的图案包含至少一开口，且当第一、第二罩幕重叠时，第一罩幕上的任一个第一延长部分以及此第一延长部分往外延伸的一第二延长部分刚好与第二罩幕的图案上的一个开口重叠，而第二罩幕的图案上的所有开口刚好只将第一罩幕上的所有第一延长部分以及第二延长部分覆盖住。所述第一延长部分以及第二延长部分的长度大于或等于感光层上的欲形成图案上的线或开口的末端因为光学近接效应所缩短的量。