封装体及其形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119008588A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202410897941.3

    申请日:2024-07-05

    Abstract: 一种方法包括将第一半导体裸晶以及第二半导体裸晶接合至基板,其中间隙设置在第一半导体裸晶的第一侧壁以及第二半导体裸晶的第二侧壁之间;执行等离子体处理以利用第一掺杂剂掺杂第一半导体裸晶以及第二半导体裸晶中的每一个的顶部表面以及侧壁,其中第一侧壁中的第一掺杂剂的浓度在从第一半导体裸晶的顶部表面朝向第一半导体裸晶的底部表面的纵向方向上降低,且第二侧壁中的第一掺杂剂的浓度在从第二半导体裸晶的顶部表面朝向第二半导体裸晶的底部表面的纵向方向上降低;以及利用旋涂介电材料填充间隙。

    封装结构
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN222690679U

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202421221143.0

    申请日:2024-05-30

    Abstract: 一种封装结构,包括具有第一表面和第二表面的基底。第二表面相对于第一表面。此封装结构包括形成在基底中的多个基底通孔(TSV)结构。基底通孔结构的宽度从第一表面向第二表面逐渐缩小。封装结构包括接合至基底的第一表面的芯片。封装结构亦包括接合到基底的第一表面并且邻接于芯片的多个晶粒。封装结构还包括形成在芯片和晶粒之间的成型材料。此外,封装结构包括连接至第二表面上的基底通孔结构的多个凸块结构。

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