公开(公告)号：CN1527385A

公开(公告)日：2004-09-08

申请号：CN03120243.8

申请日：2003-03-04

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 蔡则伦 ,  贾育台 ,  郭治群

IPC: H01L27/01 ,  H01G4/00

Abstract: 一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构，其每一层由两个极性不同的梳状结构金属电极彼此叉合而构成，并且任两相邻层中的金属电极的梳状结构互相垂直，并借由梳状结构边上的介层窗(Via)连接同极性金属电极。其中，任两金属电极之间被介电材料所隔开。

公开(公告)号：CN100359692C

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN03120243.8

申请日：2003-03-04

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 蔡则伦 ,  贾育台 ,  郭治群

IPC: H01L27/04 ,  H01G4/005

Abstract: 一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构，其每一层由两个极性不同的梳状结构金属电极彼此叉合而构成，并且任两相邻层中的金属电极的梳状结构互相垂直，并借由梳状结构边上的通孔(Via)连接同极性金属电极。其中，任两金属电极之间被介电材料所隔开。

公开(公告)号：CN2746498Y

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200420084862.9

申请日：2004-08-06

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 蔡则伦 ,  贾育台 ,  郭治群

IPC: H01G4/005 ,  H01G4/00

Abstract: 一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构，其每一层是由两个极性不同的梳状结构金属电极彼此叉合而构成，且任两相邻层中的金属电极的梳状结构互相垂直，并藉由梳状结构边上的介层窗(Via)连接同极金属电极。其中，任两金属电极之间则为介电材料所隔开。