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公开(公告)号：CN102119069A
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200980131008.9
申请日：2009-08-04
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: B24B37/00 , D04H3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供一种不易产生划痕且平坦化性能和抛光稳定性优异的抛光垫。本发明所涉及的抛光垫，包括：超细纤维络合体，由平均纤度为0.01dtex至0.8dtex的超细纤维形成；和高分子弹性体，玻璃化转变温度为-10℃以下，23℃及50℃的温度之下的储能模量为90MPa至900MPa，在50℃下使该高分子弹性体吸水饱和时的吸水率为0.2质量％至5质量％。
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公开(公告)号：CN101681825A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880016787.3
申请日：2008-03-19
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: H01L21/304 , C08J5/14 , B24B37/00
CPC classification number: H01L21/3212 , B24B37/24 , C08G18/3212 , C08G18/4238 , C08G18/4833 , C08G18/4854 , C08G18/664 , C08G18/6674
Abstract: 本发明提供一种抛光垫和使用该抛光垫的金属膜抛光方法，使用所述抛光垫对在半导体基本上等形成的金属膜进行抛光时，可以提高被抛光面的平坦性和平坦化效率，并且，产生的划痕少。所述金属膜抛光用垫在80℃下的储能模量为200～900MPa，且在110℃下的储能模量为40MPa以下。
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公开(公告)号：CN101678527B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200880016877.2
申请日：2008-03-19
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/24 , B32B5/022 , B32B5/24 , B32B7/12 , B32B25/14 , B32B25/20 , B32B2260/021 , B32B2260/046 , B32B2307/54 , B32B2457/14 , C08G18/0895 , C08G18/3206 , C08G18/3212 , C08G18/4238 , C08G18/4854 , C08G18/664 , C08G18/6674 , C08G18/7671 , C08G2101/0058 , Y10T428/31551 , Y10T428/31554 , Y10T428/31598 , Y10T428/31663 , Y10T428/31931
Abstract: 本发明提供可实现抛光的抛光垫和用于该抛光垫的衬垫，该抛光可实现抛光表面的优异平坦性和在抛光后的膜厚度的均匀性，和同时实现高抛光速率，且还具有抛光物体如绝缘膜或金属膜的优异抛光均匀性。所述衬垫满足以下要求：在23℃、静载荷27.6KPa、频率11Hz和振幅1μm的条件下的动态压缩粘弹性测量中，(1)动应力和变形之间的相位差不超过4度，和(2)变形的最大值与动应力的最大值的比([变形的最大值]/[动应力的最大值])不小于0.5μm/KPa。所述抛光垫包括用于抛光垫的衬垫层和抛光层。
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公开(公告)号：CN101681825B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200880016787.3
申请日：2008-03-19
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: H01L21/304 , C08J5/14 , B24B37/00
CPC classification number: H01L21/3212 , B24B37/24 , C08G18/3212 , C08G18/4238 , C08G18/4833 , C08G18/4854 , C08G18/664 , C08G18/6674
Abstract: 本发明提供一种抛光垫和使用该抛光垫的金属膜抛光方法，使用所述抛光垫对在半导体基本上等形成的金属膜进行抛光时，可以提高被抛光面的平坦性和平坦化效率，并且，产生的划痕少。所述金属膜抛光用垫在80℃下的储能模量为200～900MPa，且在110℃下的储能模量为40MPa以下。
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公开(公告)号：CN101600540A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200880003811.X
申请日：2008-02-01
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供一种不易产生划痕且平坦化性能优异的抛光垫。本发明所涉及的抛光垫，其包括高分子弹性体(2)，以及由采用平均剖面积为0.01μm2至30μm2的超细单纤维(3)而构成的纤维束(1)所形成的纤维络合体，高分子弹性体的一部分存在于纤维束的内部以使所述超细单纤维集束起来，存在于抛光垫厚度方向剖面上的单位面积的纤维数目为600束/mm2以上，抛光垫空隙以外的部分的体积比率为55％至95％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101175791A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200680016609.1
申请日：2006-03-17
Applicant: 可乐丽股份有限公司
Abstract: 本发明提供具有高度的滞留稳定性、耐热水性和耐化学品性，并且与其它树脂等的粘合性或相容性优异的半芳族聚酰胺树脂。半芳族聚酰胺树脂含有二羧酸单元和二胺单元，其中二羧酸单元的50～100％mol为芳族二羧酸单元，二胺单元的60～100％mol为碳原子数9～13的脂族二胺单元。另外，其分子链的末端基团的至少10％被封端剂封端，其分子链末端氨基量为60μ当量/g以上、120μ当量/g以下，且将末端氨基量以[NH2](μ当量/g)表示、末端羧基量以[COOH](μ当量/g)表示时，满足[NH2]/[COOH]≥6的公式。
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公开(公告)号：CN102119069B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN200980131008.9
申请日：2009-08-04
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: B24B37/00 , D04H3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供一种不易产生划痕且平坦化性能和抛光稳定性优异的抛光垫。本发明所涉及的抛光垫，包括：超细纤维络合体，由平均纤度为0.01dtex至0.8dtex的超细纤维形成；和高分子弹性体，玻璃化转变温度为-10℃以下，23℃及50℃的温度之下的储能模量为90MPa至900MPa，在50℃下使该高分子弹性体吸水饱和时的吸水率为0.2质量％至5质量％。
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公开(公告)号：CN101600540B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200880003811.X
申请日：2008-02-01
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供一种不易产生划痕且平坦化性能优异的抛光垫。本发明所涉及的抛光垫，其包括高分子弹性体(2)，以及由采用平均剖面积为0.01μm2至30μm2的超细单纤维(3)而构成的纤维束(1)所形成的纤维络合体，高分子弹性体的一部分存在于纤维束的内部以使所述超细单纤维集束起来，存在于抛光垫厚度方向剖面上的单位面积的纤维数目为600束/mm2以上，抛光垫空隙以外的部分的体积比率为55％至95％。
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公开(公告)号：CN101175791B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200680016609.1
申请日：2006-03-17
Applicant: 可乐丽股份有限公司
Abstract: [课题]本发明提供具有高度的滞留稳定性、耐热水性和耐化学品性，并且与其它树脂等的粘合性或相容性优异的半芳族聚酰胺树脂。[解决手段]半芳族聚酰胺树脂含有二羧酸单元和二胺单元，其中二羧酸单元的50～100％mol为芳族二羧酸单元，二胺单元的60～100％mol为碳原子数9～13的脂族二胺单元。另外，其分子链的末端基团的至少10％被封端剂封端，其分子链末端氨基量为60μ当量/g以上、120μ当量/g以下，且将末端氨基量以[NH2](μ当量/g)表示、末端羧基量以[COOH](μ当量/g)表示时，满足[NH2]/[COOH]≥6的公式。
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公开(公告)号：CN101268111A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200680034450.6
申请日：2006-09-21
Applicant: 可乐丽股份有限公司
IPC: C08G18/00 , B24B37/00 , C08J9/12 , C08L75/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/24 , C08G18/0895 , C08G18/3212 , C08G18/4238 , C08G18/4854 , C08G18/664 , C08G18/6674 , C08G2101/00 , C08J9/122 , C08J2375/04 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的课题在于提供可用作可实现被研磨面的平坦性和提高平坦化效率、且划伤发生少的研磨垫的高分子材料。本发明是通过在用50℃的水饱和溶胀后在50℃下的拉伸弹性模量为130－800MPa，50℃下的损耗角正切为0.2以下，与水的接触角为80°以下的高分子材料来解决上述课题的。
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