发光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106972112A

    公开(公告)日:2017-07-21

    申请号:CN201710096110.6

    申请日:2017-02-22

    CPC classification number: H01L51/50 H01L51/5262 H01L2251/53

    Abstract: 本发明提供一种发光装置,包含有机发光元件及光学层组。有机发光元件具有发光面。光学层组具有相对的第一表面及第二表面。第一表面较第二表面接近发光元件。光学层组包含偏光层及滤光层。偏光层设置于发光元件的发光面上。滤光层设置于发光元件的发光面上。当光线从第二表面穿过光学层组而通过第一表面成为第一光线,第一光线具有第一光谱,当光线从第一表面穿过光学层组而通过第二表面成为第二光线,第二光线具有第二光谱。第一光谱相异于第二光谱。第一光谱于波长值为380nm以下的穿透率小于或等于2%。

    发光装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106972112B

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201710096110.6

    申请日:2017-02-22

    Abstract: 本发明提供一种发光装置,包含有机发光元件及光学层组。有机发光元件具有发光面。光学层组具有相对的第一表面及第二表面。第一表面较第二表面接近发光元件。光学层组包含偏光层及滤光层。偏光层设置于发光元件的发光面上。滤光层设置于发光元件的发光面上。当光线从第二表面穿过光学层组而通过第一表面成为第一光线,第一光线具有第一光谱,当光线从第一表面穿过光学层组而通过第二表面成为第二光线,第二光线具有第二光谱。第一光谱相异于第二光谱。第一光谱于波长值为380nm以下的穿透率小于或等于2%。

    掩膜及其制造方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102645838B

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201210109750.3

    申请日:2012-04-12

    Abstract: 本发明公开一种掩膜及其制造方法。掩膜包括一透明基板以及一图案化玻璃胶层。透明基板具有一图案区以及一非图案区。图案化玻璃胶层位于图案区的部分为透光状态,且位于非图案区的部分是不透光状态。本发明更提出一种掩膜的制造方法。首先,提供一透明基板,透明基板具有一图案区以及一非图案区。接着,在透明基板上配置一玻璃料层。再来,固化玻璃料层,以形成不透光的一玻璃胶层。最后,将位于图案区的玻璃胶层转换为透光状态,以形成一图案化玻璃胶层。本发明的掩膜及其制造方法可减少化学药剂的使用量、降低成本并且简化制造流程。

    显示面板及其封装方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103354209A

    公开(公告)日:2013-10-16

    申请号:CN201310287517.9

    申请日:2013-07-10

    CPC classification number: H01L27/1262 G02F1/1339 H01L27/1248

    Abstract: 本发明公开一种显示面板及其封装方法。此显示面板具有显示区以及非显示区,且此封装方法包括以下步骤。提供第一基板,第一基板具有位于显示区中的像素阵列。在第一基板上的非显示区中,形成吸收材料层。提供第二基板,第二基板具有位于非显示区中的封装材料层。组立第二基板与第一基板,并于第一基板以及第二基板之间形成显示介质,其中吸收材料层与封装材料层至少部分重叠。对封装材料层进行激光处理程序,以使封装材料层将第一基板与第二基板粘合,其中吸收材料层用以吸收激光处理程序中通过封装材料层的部分激光。

    显示面板及其封装方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103354209B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201310287517.9

    申请日:2013-07-10

    CPC classification number: H01L27/1262 G02F1/1339 H01L27/1248

    Abstract: 本发明公开一种显示面板及其封装方法。此显示面板具有显示区以及非显示区,且此封装方法包括以下步骤。提供第一基板,第一基板具有位于显示区中的像素阵列。在第一基板上的非显示区中,形成吸收材料层。提供第二基板,第二基板具有位于非显示区中的封装材料层。组立第二基板与第一基板,并于第一基板以及第二基板之间形成显示介质,其中吸收材料层与封装材料层至少部分重叠。对封装材料层进行激光处理程序,以使封装材料层将第一基板与第二基板粘合,其中吸收材料层用以吸收激光处理程序中通过封装材料层的部分激光。

    掩膜及其制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102645838A

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201210109750.3

    申请日:2012-04-12

    Abstract: 本发明公开一种掩膜及其制造方法。掩膜包括一透明基板以及一图案化玻璃胶层。透明基板具有一图案区以及一非图案区。图案化玻璃胶层位于图案区的部分为透光状态,且位于非图案区的部分是不透光状态。本发明更提出一种掩膜的制造方法。首先,提供一透明基板,透明基板具有一图案区以及一非图案区。接着,在透明基板上配置一玻璃料层。再来,固化玻璃料层,以形成不透光的一玻璃胶层。最后,将位于图案区的玻璃胶层转换为透光状态,以形成一图案化玻璃胶层。本发明的掩膜及其制造方法可减少化学药剂的使用量、降低成本并且简化制造流程。

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